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NR9 3000P光刻膠報價按需定制「賽米萊德」

發(fā)布時間:2021-10-20 09:11  

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光刻膠的應用

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模擬半導體(Analog Semiconductors)發(fā)光二極管(Light-Emitting Diodes LEDs)微機電系統(tǒng)(Microelectromechanical Systems MEMS)太陽能光伏(Solar Photovoltaics PV)微流道和生物芯片(Microfluidics & Biochips)光電子器件/光子器件(Optoelectronics/Photonics)封裝(Packaging)



硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?

注意事項:

①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠;

②看光刻機型式,若是投影方式,用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題

③負性膠價格成本低,正性膠較貴;

④工藝方面:負性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽;

⑤健康方面:負性膠為有機溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,對健康、環(huán)境無害。

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光刻膠分類

根據(jù)化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經(jīng)曝光后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經(jīng)曝光后變成可溶的為正性膠。

從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。

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