NR7 6000PY光刻膠-賽米萊德公司

NR9-250P

20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？

A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip

on glass 上的膠粘劑。

21．是否有Wax替代品？

A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。

22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？

A 有，IC1-200就是

23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？

A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，NR7 6000PY光刻膠價格，都可以簡化。

24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？

A 1 需要知道要涂在什么材質(zhì)上，2

還有要知道需要做的膜厚，3

還要知道光刻膠的分辨率

4還有需要正膠還是負膠，5

需要國產(chǎn)還是進口的

27．想找一款膜厚在120um，的光刻膠，NR7 6000PY光刻膠廠家，有什么光刻膠可以做到啊！

A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex

NR21-20000P ，。

28．有沒有了解一款美國Futurrex

NR9-250P的光刻膠，請教下？

A 這是一款負性光刻膠，濕法蝕刻使用的，附著力很好，NR7 6000PY光刻膠公司，耐100度的溫度，國內(nèi)也有可以代理的公司，F(xiàn)uturre

光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商，在光刻膠的領域有著不錯的聲譽，在太陽能光伏，和LED半導體行業(yè)都有不錯的市場占有率。

29．想找款膜厚的產(chǎn)品，進行蝕刻，有什么好推薦？

A 厚膜應用（thick

film applicati），主要是指高縱橫比（Aspect

ratios），高分辨率，高反差，有幾款產(chǎn)品向你推薦一下《NR4-8000P，NR2-20000P，NR5-8000，這些產(chǎn)品都需要用到邊膠清洗液》

的光刻

NR77-5000PY

PR1-2000A1 試驗操作流程

PR1-2000A1的厚度范圍可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm為列；

1，靜態(tài)滴膠后以1300轉(zhuǎn)/分速度持續(xù)40秒。同時必須需要在1秒內(nèi)達到從0轉(zhuǎn)/分到1300轉(zhuǎn)/分的升速度；

2，前烘：熱板120度120秒；

3，冷卻至室溫；

4，用波長為365，406，436的波長曝光，

5，在溫度為20-25度，使用RD6浸泡式、噴霧、顯影 ；

6，去除光刻膠，可使用CH3COCH3，RR5，RR41等。

光刻膠介紹

光刻膠是一種對光線、溫度、濕度十分敏感的材料，可以在光照后發(fā)生化學性質(zhì)的改變，NR7 6000PY光刻膠，這是整個工藝的基礎。

光刻膠有不同的類型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛樹脂）等材料都可以做光刻膠。

 目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括 FUTURREX、陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、LG化學等等，中國公司在光刻膠領域也缺少技術。

 

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