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光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質 ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的部分,NR9 3000PY光刻膠廠家,他對光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強,度都根據感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質,為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質,并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。
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光刻膠分類介紹
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根據化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經曝光后變成可溶的為正性膠。 從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。
光刻膠產品種類多、性強,是典型的技術密集型行業(yè)。不同用途的光刻膠曝光光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等性能要求不同,導致對于材料的溶解性、耐蝕刻性、耐熱性等要求不同。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊,要求使用不同品質等級的光刻膠化學品。
光刻膠應用
光刻膠是一種具有光化學敏感性的功能性化學材料,是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,其中,樹脂約占50%,單體約占35%。它能通過光化學反應改變自身在顯影液中的溶解性,通過將光刻膠均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上,利用它的光化學敏感性,通過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜版上的圖形轉移到襯底上。
光刻膠常被稱為是精細化工行業(yè)技術壁壘的材料,是因為微米級乃至納米級的圖形加工對其化學品的要求極高,NR9 3000PY光刻膠哪里有,不僅化學結構特殊,品質要求也很苛刻,所以生產工藝復雜,需要長期的技術積累。
被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作,是電子制造領域的關鍵材料之一。下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細加工,同時在LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過程中也有廣泛應用,是微細加工技術的關鍵性材料。
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