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品牌
產地
型號
厚度
曝光
應用
加工
特性
Futurrex
美國
NR71-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
用于i線曝光的負膠
LEDOLED、
顯示器、
MEMS、
封裝、
生物芯片等
金屬和介電
質上圖案化,
不必使用RIE
加工器件的永
組成
(OLED顯示
器上的間隔
區(qū))凸點、
互連、空中
連接微通道
顯影時形成光刻膠倒
梯形結構
厚度范圍:
0.5~20.0 μm
i、g和h線曝光波長
曝光
對生產效率的影響:
金屬和介電質圖案化
時省去干法刻蝕加工
不需要雙層膠技術
NR71-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR71-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9-100PY
0.7μm~2.1μm
粘度增強
NR9-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR9-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR71G-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
負膠對 g、h線波長的靈敏度
NR71G-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71G-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR71G-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9G-100PY
0.7μm~2.1μm
粘度增強
NR9G-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR9G-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9G-6000PY
5.7μm~12.2μm
品牌
產地
型號
厚度
耐熱溫度
應用
Futurrex
美國
PR1-500A
0.4μm~0.9μm
提供先進化學技術的多樣化解決方案
成立于1985年,總部設在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司
公司業(yè)務覆蓋范圍包括北美,NR9 3000PY光刻膠哪里有,亞太以及歐洲
基于多樣化的技術
應用領域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷
解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程
客戶:從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司
使命
目標
提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能
策略
提供的產品來優(yōu)化生產制程,以提高設備能效
領的技術提升生產過程中的整體
工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能
增加客戶的產能和生產的效率
工藝減化
非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定
在生產過程中,不含有害溶劑
支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功
NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
和接觸式光刻等工具。
顯影之后,NR9-3000PY 展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過調節(jié)曝光能量很容易地調節(jié)倒梯形側壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲存保質期長達3 年
Lift-Off工藝
應用領域:LEDs,OLEDs,NR9 3000PY光刻膠,displays,MEMS,NR9 3000PY光刻膠報價,packaging,biochips。
濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)
附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C
Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠
負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365
nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
和接觸式光刻等工具。
顯影之后,NR9-3000PY 展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。
企業(yè): 北京賽米萊德貿易有限公司
手機: 15201255285
電話: 010-63332310
地址: 北京市北京經濟技術開發(fā)區(qū)博興九路2號院5號樓2層208