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NR9 3000PY光刻膠-北京賽米萊德

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發(fā)布時間:2022-04-22 05:15  





NR77-25000P,RD8


 品牌

 產地

 型號

 厚度

 曝光

 應用

 加工

 特性

 Futurrex

 美國

 NR71-1000PY

 0.7μm~2.1μm

 高溫耐受

 用于i線曝光的負膠

 LEDOLED、

     顯示器、

 MEMS、

     封裝、

     生物芯片等

     金屬和介電

     質上圖案化,

     不必使用RIE

     加工器件的永

    組成

    (OLED顯示

     器上的間隔

     區(qū))凸點、

     互連、空中

     連接微通道

     顯影時形成光刻膠倒

     梯形結構

     厚度范圍:

     0.5~20.0 μm

     i、g和h線曝光波長

     曝光

     對生產效率的影響:

     金屬和介電質圖案化

     時省去干法刻蝕加工

     不需要雙層膠技術

 NR71-1500PY

  1.3μm~3.1μm

 NR71-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR71-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR9-100PY

 0.7μm~2.1μm

 粘度增強

 NR9-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR9-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR9-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR71G-1000PY

 0.7μm~2.1μm

 高溫耐受

  負膠對  g、h線波長的靈敏度

 NR71G-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR71G-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR71G-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 NR9G-100PY

 0.7μm~2.1μm

 粘度增強

 NR9G-1500PY

 1.3μm~3.1μm

 NR9G-3000PY

 2.8μm~6.3μm

 NR9G-6000PY

 5.7μm~12.2μm

 品牌

 產地

 型號

 厚度

 耐熱溫度

 應用

 Futurrex

 美國

 PR1-500A

 0.4μm~0.9μm




?Futurrex

提供先進化學技術的多樣化解決方案

成立于1985年,總部設在美國新澤西州,富蘭克林市,高速成長并超過20年連續(xù)盈利的跨國公司

公司業(yè)務覆蓋范圍包括北美,NR9 3000PY光刻膠哪里有,亞太以及歐洲

基于多樣化的技術

應用領域:微電子、光電子、LED、太陽能光伏、微機電系統(tǒng)、生物芯片、微流體、平面印刷

解決方案:的光刻膠、摻雜涂層、平坦化涂層、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻擋層(Barrior Layere)、濕法制程

客戶:從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司

使命

目標

提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能

策略

提供的產品來優(yōu)化生產制程,以提高設備能效

領的技術提升生產過程中的整體

工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能

增加客戶的產能和生產的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產過程中,不含有害溶劑

支持所有客戶的需要,與客戶共創(chuàng)成功


NR9-3000PY 負性光刻膠

負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

和接觸式光刻等工具。

顯影之后,NR9-3000PY 展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢:

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調節(jié)曝光能量很容易地調節(jié)倒梯形側壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質期長達3 年

Lift-Off工藝

應用領域:LEDs,OLEDs,NR9 3000PY光刻膠,displays,MEMS,NR9 3000PY光刻膠報價,packaging,biochips。

濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)

附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C

Resist Thickness NR9-3000PY 負性光刻膠

負膠 NR9-3000PY 被設計用于i 線(365

nm)曝光,可使用如步進光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻

和接觸式光刻等工具。

顯影之后,NR9-3000PY 展現出一種倒梯形側壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。



NR9 3000PY光刻膠-北京賽米萊德由 北京賽米萊德貿易有限公司提供。 北京賽米萊德貿易有限公司實力不俗,信譽可靠,在北京 大興區(qū) 的半導體材料等行業(yè)積累了大批忠誠的客戶。賽米萊德帶著精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念和您攜手步入輝煌,共創(chuàng)美好未來!

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企業(yè): 北京賽米萊德貿易有限公司

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