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光刻膠介紹
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光刻膠是電子領(lǐng)域微細圖形加工關(guān)鍵材料之一,是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下,其溶解度發(fā)生變化,光刻膠廠家,經(jīng)適當溶劑處理,溶去可溶性部分,然后得到所需圖像。 光刻膠作為技術(shù)門檻極高的電子化學品一直被國際企業(yè)壟斷。 隨著大力研發(fā)和投入, 國內(nèi)企業(yè)已逐步從低端 PCB 光刻膠發(fā)展至中端半導體光刻膠的量產(chǎn)。
光刻膠的成分
樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質(zhì) ,是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的部分,他對光形式的輻射能,特別在紫外區(qū)會發(fā)生反應。曝光時間、光源所發(fā)射光線的強,度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分,感光劑和添加劑都是固體物質(zhì),導電光刻膠廠家,為了方便均勻的涂覆,要將他們加入溶劑進行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),并且使之具有良好的流動性,可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑。
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光刻膠的參數(shù)是什么?
分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的技術(shù)參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展,干膜光刻膠廠家,芯片制造特征尺寸越來越小,對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要,光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。
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