【廣告】
芯片光刻的流程詳解(一)
在集成電路的制造過程中,有一個(gè)重要的環(huán)節(jié)——光刻,NR74g 3000PY光刻膠公司,正因?yàn)橛辛怂?,我們才能在微小的芯片上?shí)現(xiàn)功能?,F(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國(guó)人Nicephore niepce在各種材料光照實(shí)驗(yàn)以后,開始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,NR74g 3000PY光刻膠,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過2、3小時(shí)的日曬,NR74g 3000PY光刻膠多少錢,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。通過用強(qiáng)酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個(gè)d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。
Niepce的發(fā)明100多年后,即第二次大戰(zhàn)期間才應(yīng)用于制作印刷電路板,NR74g 3000PY光刻膠哪家好,即在塑料板上制作銅線路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管,當(dāng)時(shí)分辨率5um,如今除可見光光刻之外,更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。
光刻膠運(yùn)輸標(biāo)識(shí)及注意事項(xiàng)
標(biāo)簽上標(biāo)明的意思
R標(biāo)識(shí)
R10 YI燃。
S標(biāo)識(shí)
S16 遠(yuǎn)離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對(duì)靜電放電采取預(yù)防措施。
S 9 將容器保持在通風(fēng)良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來(lái)分解。一般不通過水解降解。300 ppm對(duì)水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國(guó)Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,此款負(fù)膠的設(shè)計(jì)適用于比較寬的波長(zhǎng)范圍和i線(366納米)曝光工具。當(dāng)顯影后NR9-3000PY顯示出負(fù)的側(cè)壁角度,是lift-off工藝中比較簡(jiǎn)易的光刻膠。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢(shì):
企業(yè): 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
手機(jī): 15201255285
電話: 010-63332310
地址: 北京市北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)博興九路2號(hào)院5號(hào)樓2層208