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化學(xué)氣相沉積法在金屬材料方面的使用
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化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)幾種金屬薄膜
金屬薄膜因其有著較好的高導(dǎo)電率、強催化活性以及極其穩(wěn)定引起了研究者的興趣。和生成金屬薄膜的其他方式相比,化學(xué)氣相沉積法有更多技術(shù)優(yōu)勢,所以大多數(shù)制備金屬薄膜都會采用這種方式。沉積金屬薄膜用的沉積員物質(zhì)種類比較廣泛,不過大多是金屬元素的鹵化物和有機化合物,比如COCl2、氯化碳酰鉑、氯化碳酰銥、DCPD化合物等等。
Goto 團隊在金屬薄膜用作電極材料上做了大量的工作。他們所使用的襯底材料有藍寶石、石英玻璃以及氧化釔穩(wěn)定化的二氧化鋯(YSZ)等等。在成沉積時往裝置中通入氧氣是為了消除掉原料因熱分解產(chǎn)生的碳,氣相化學(xué)沉積設(shè)備,并制備出更有金屬光澤的金屬薄膜,如若不然則得到的就是銥碳簇膜,也就是納米等級被晶碳層所包裹的銥顆粒。沉積在YSZ 上面的銥碳簇膜有著較好的電性能和催化活性。在比較低的溫度下,銥碳簇膜的界面電導(dǎo)率能達到純銥或者純鉑的百倍以上。金屬和炭組成的簇膜是一種輸送多孔催化活性強的簇膜,在電極材料上的使用在未來將很有潛力。
化學(xué)氣相沉積法在金屬材料方面的使用
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化學(xué)氣相沉積法生產(chǎn)金屬銥高溫涂層從20世紀(jì)80年代起,NASA 開始嘗試使用金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積法制取出使用錸基銥作為涂層的復(fù)合噴管,并獲得了成功,這時化學(xué)氣相沉積法在生產(chǎn)金屬涂層領(lǐng)域才有了一定程度上的突破。
NASA 使用了C15H21IrO6作為制取銥涂層的材料,并利用 C15H21IrO6的熱分解反應(yīng)進行沉積。銥的沉積速度很快,可以達到3~20μm/h。 沉積厚度也達到了50μm,C15H21IrO6的制取效率達 70%以上。
ICP刻蝕機裝片介紹
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等離子體系統(tǒng)效應(yīng)的過程轉(zhuǎn)換成材料的蝕刻工藝。在待刻蝕硅片的兩邊,分別放置一片與硅片同樣大小的玻璃夾板,疊放整齊,用夾具夾緊,確保待刻蝕的硅片中間沒有大的縫隙。冷熱探針法將夾具平穩(wěn)放入反應(yīng)室的支架上,氣相化學(xué)沉積設(shè)備哪家好,關(guān)好反應(yīng)室的蓋子。等離子刻蝕檢驗原理為冷熱探針法,具體方法如下:熱探針和N型半導(dǎo)體接觸時,傳導(dǎo)電子將流向溫度較低的區(qū)域,使得熱探針處電子缺少,因而其電勢相對于同一材料上的室溫觸點而言將是正的。同樣道理,P型半導(dǎo)體熱探針觸點相對于室溫觸點而言將是負的。此電勢差可以用簡單的微伏表測量。熱探針的結(jié)構(gòu)可以是將小的熱線圈繞在一個探針的周圍,也可以用小型的電烙鐵。
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