激光脈沖沉積裝置價格-激光脈沖沉積裝置-沈陽鵬程真空技術(shù)公司

脈沖激光沉積系統(tǒng)配置介紹

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脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：

生長室，進樣室可選水平、垂直兩種靶臺可選激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺可選，激光脈沖沉積裝置，激光加熱高的溫度1200℃工藝氣路可以任意搭配配備高壓RHEED，工作氣壓可達100Pa可預(yù)留法蘭，用于LEED，激光脈沖沉積裝置價格，K-Cell，激光脈沖沉積裝置廠家， E-beam等其它可選項如臭氧發(fā)生器，離子源，掩膜系統(tǒng)等。

脈沖激光沉積設(shè)備介紹

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是比較理想的薄膜與涂層合成設(shè)備?？芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

脈沖激光沉積的優(yōu)點

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1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制；

4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

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