氣相化學(xué)沉積設(shè)備-沈陽鵬程公司-氣相化學(xué)沉積設(shè)備公司

PCVD與傳統(tǒng)CVD技術(shù)的區(qū)別

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)化學(xué)氣相沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

PCVD與傳統(tǒng)CVD技術(shù)的區(qū)別在于等離子體含有大量的高能量電子，這些電子可以提供化學(xué)氣相沉積過程中所需要的激發(fā)能，從而改變了反應(yīng)體系的能量供給方式。由于等離子體中的電子溫度高達(dá)10000K，電子與氣相分子的碰撞可以促進(jìn)反應(yīng)氣體分子的化學(xué)鍵斷裂和重新組合，生成活性更高的化學(xué)基團(tuán)，同時(shí)整個(gè)反應(yīng)體系卻保持較低的溫度。這一特點(diǎn)使得原來需要在高溫下進(jìn)行的CVD過程得以在低溫下進(jìn)行。

ICP刻蝕機(jī)的應(yīng)用

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——生產(chǎn)、銷售ICP刻蝕機(jī)，我們公司堅(jiān)持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽(yù)，氣相化學(xué)沉積設(shè)備，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

等離子體處理可應(yīng)用于所有的基材，甚至復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、等離子體清洗，氣相化學(xué)沉積設(shè)備公司，等離子體鍍膜也毫無問題。等離子體處理時(shí)的熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，因此，低壓等離子體也能處理敏感性材料。等離子刻蝕機(jī)的典型應(yīng)用包括：

等離子體清除浮渣

光阻材料剝離

表面處理

各向異性和各向同性失效分析應(yīng)用等離子刻蝕反應(yīng)材料改性

包裝清洗

鈍化層蝕刻

聚亞酰胺蝕刻

增強(qiáng)粘接力

生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用

聚合反應(yīng)

混合物清洗

預(yù)結(jié)合清洗

ICP刻蝕機(jī)的測(cè)量與控制

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)、銷售ICP刻蝕機(jī)，氣相化學(xué)沉積設(shè)備價(jià)格，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

由于等離子刻蝕工藝中的過程變量，如刻蝕率、氣壓、溫度、等離子阻抗，等等，不易測(cè)量，因此業(yè)界常用的測(cè)量方法有：

虛擬測(cè)量（Virtual Metrology） 

等離子刻蝕過程控制示意圖

光譜測(cè)量

等離子阻抗監(jiān)控

終端探測(cè)

遠(yuǎn)程耦合傳感

控制方法

run-to-run 控制（R2R） 

模型預(yù)測(cè)控制（MPC）

人工神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)控制

氣相化學(xué)沉積設(shè)備-沈陽鵬程公司-氣相化學(xué)沉積設(shè)備公司由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司提供。沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司位于沈陽市沈河區(qū)凌云街35號(hào)。在市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的浪潮中拼博和發(fā)展，目前沈陽鵬程在化工設(shè)備配件中享有良好的聲譽(yù)。沈陽鵬程取得全網(wǎng)商盟認(rèn)證，標(biāo)志著我們的服務(wù)和管理水平達(dá)到了一個(gè)新的高度。沈陽鵬程全體員工愿與各界有識(shí)之士共同發(fā)展，共創(chuàng)美好未來。