多弧離子鍍膜機(jī)-湖州離子鍍膜機(jī)-至成鍍膜設(shè)備

DLC真空鍍膜設(shè)備的分類(lèi)與應(yīng)用

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備是在塑料玻璃金屬等表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的設(shè)備，DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細(xì)密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開(kāi)DLC真空鍍膜設(shè)備。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線(xiàn)性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。

經(jīng)至成真空科技技術(shù)人員多年專(zhuān)注研發(fā)，通過(guò)特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜層附著有力致密、從復(fù)度一致性好等特點(diǎn)；

解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。

DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

DLC鍍膜設(shè)備是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門(mén)，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備可在該雙門(mén)上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。

真空鍍膜機(jī)設(shè)備真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)在等離子體束濺射中，濺射離子均勻刻蝕靶面，并且不會(huì)使靶面產(chǎn)生氧化。與磁控濺射相比，其中的等離子體束是由射頻等離子體源產(chǎn)生的，磁場(chǎng)的作用則是使等離子體束會(huì)聚并偏轉(zhuǎn)至靶面，因此，雖然等離子體束濺射鍍膜系統(tǒng)內(nèi)也有磁場(chǎng)，但其磁場(chǎng)卻并不控制影響濺射，這也摒棄了磁控濺射中由磁場(chǎng)不均勻帶來(lái)的“磁控”的缺點(diǎn)。在濺射完成后，所得的靶材利用率可高達(dá)90%以上。

真空鍍膜機(jī)即分別進(jìn)行磁控濺射和等離子體束濺射之后靶面刻蝕的對(duì)比圖。由于靶材的利用率大幅度提高，也解決了磁控濺射中所難以克服的缺點(diǎn)，即靶中的毒導(dǎo)致的刻蝕不均勻

真空鍍膜機(jī)此外，磁控濺射由于背面磁鐵磁場(chǎng)不均勻而產(chǎn)生濺射跑道，非磁場(chǎng)約束區(qū)很容易產(chǎn)生氧化，因此很難沉積鐵磁性材料，而等離子體束濺射中由于不用磁鐵作為等離子體約束，能夠進(jìn)行鐵磁性材料的鍍膜，并且可以使用很厚的靶材，圖3中實(shí)驗(yàn)金屬鈷的厚度即為6mm。對(duì)于鐵、鎳、鉻以及鐵磁性化合物，等離子體束濺射也都具有很高的濺射速率。

應(yīng)用該項(xiàng)鍍膜技術(shù)的系統(tǒng)還有一個(gè)優(yōu)點(diǎn)，當(dāng)將電磁線(xiàn)圈的極性反接時(shí)，由于磁場(chǎng)的方向產(chǎn)生了變化，等離子體束會(huì)在磁場(chǎng)的作用下轟擊基片，從而對(duì)基片產(chǎn)生清洗作用,如圖4所示。這實(shí)際上可以使得應(yīng)用該項(xiàng)技術(shù)的鍍膜機(jī)省略常規(guī)鍍膜機(jī)的清洗用離子源。

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備該如何進(jìn)行保養(yǎng)

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜（控制電柜、電子電樞）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有的性能。

光學(xué)真空鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋牧鲜軣岷笳舭l(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。