光學(xué)鍍膜設(shè)備-至成鍍膜設(shè)備供應(yīng)-長沙鍍膜設(shè)備

包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業(yè)中，的生產(chǎn)效率，再加上的產(chǎn)品性能，是應(yīng)對未來挑戰(zhàn)的。

通過將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學(xué)、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材，針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現(xiàn)輸出，比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點：高正常運行時間，因為一個強大和服務(wù)友好的機器概念由于強大的等離子預(yù)處理，產(chǎn)品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置，在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡化操作和優(yōu)化設(shè)計，便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的設(shè)計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個別要求。由于穩(wěn)健的機器設(shè)計，正常運行時間很長

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于：

電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。

常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

二，光學(xué)薄膜

減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)薄膜，因此，它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設(shè)計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數(shù)，簡單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強度，也是人們關(guān)心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬；缺點是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。