您好,歡迎來到易龍商務(wù)網(wǎng)!

光學(xué)鍍膜設(shè)備-至成鍍膜設(shè)備供應(yīng)-長沙鍍膜設(shè)備

【廣告】

發(fā)布時間:2021-11-08 18:09  








包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備


HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業(yè)中,的生產(chǎn)效率,再加上的產(chǎn)品性能,是應(yīng)對未來挑戰(zhàn)的。

通過將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學(xué)、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100~3850mm的寬幅,以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材,針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現(xiàn)輸出,比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點:高正常運行時間,因為一個強大和服務(wù)友好的機器概念由于強大的等離子預(yù)處理,產(chǎn)品一致性高,阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置,在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡化操作和優(yōu)化設(shè)計,便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的設(shè)計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個別要求。由于穩(wěn)健的機器設(shè)計,正常運行時間很長


電子束蒸發(fā)的優(yōu)點在于:


電子束的光斑可以隨意調(diào)整,可以一多用,燈絲可以隱藏,避免污染,可以蒸發(fā)任意鍍膜材料,維修方便,蒸發(fā)速度可以隨意控制,材料分解小,膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面,通過動能傳輸,令靶材的分子(原子)有足夠的能量從靶材表面逸出,在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強,薄膜的純度高,可以同時濺射多種不同成分的材料,但是對靶材的要求高,不能象電子一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射,磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場,將電子約束在陰極靶材表面附近,提高電離效率。它是操作簡單的一種,所以運用非常廣。



常用的光學(xué)鍍膜有哪些?


二,光學(xué)薄膜

減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)薄膜,因此,它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題,研究的重點是尋找新材料,設(shè)計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數(shù),簡單、穩(wěn)定的工藝,獲得盡可能高的成品率,達到理想的效果。對激光薄膜來說,減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié),如何提高它的破壞強度,也是人們關(guān)心的問題之一。

反射膜

它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù),當光束由空氣入射到金屬表面時,進入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減,使得進入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少,而反射光能增加。消光系數(shù)越大,光振幅衰減越迅速,進入金屬內(nèi)部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大,光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質(zhì)膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損耗大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點。


聯(lián)系我們

企業(yè): 東莞市至成真空科技有限公司

手機: 13926868291

電話: 0769-85622826

地址: 東莞市萬江區(qū)流涌尾工業(yè)區(qū)汾溪路450號