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真空鍍膜設備的正常工作條件

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對濕度：不大于70%

3、冷卻水進水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質：城市自來水或質量相當?shù)乃?/p>

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；

6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。

氧化物怎么鍍膜？

氧化物鍍膜過程是很復雜的，但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度，而三者之間又相互關聯(lián)約束。那氧化物的鍍膜到底是怎么個過程呢？下面我們就來聽聽真空鍍膜設備至成真空科技的講解！

從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍原料表面的時候溫度很高，能量也比較高，在上升通過蒸發(fā)區(qū)到達基材表面的過程中，由于碰撞、運動中的能量交換導致動能下降，到達基材表面的粒子很快與基材交換能量，迅速沉積在其表面。

在鍍膜工藝中，離子轟擊改善基材的表面，在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段，較好地解決了鍍膜與基材結合牢固度的問題。其實在眾多的鍍膜工藝里，氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的，因為它面臨著很多因素影響，環(huán)境和材料等等，但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設備的發(fā)展趨勢會越來越好！

真空鍍膜機是如何操作真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機的

隨著真空鍍膜機的工藝發(fā)展不斷革新，而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向發(fā)展。成為現(xiàn)代企業(yè)優(yōu)選的鍍膜工藝。今天我們通過中國真空協(xié)會的剖析后，給予詳細作答。其實鍍膜機的正常操作方法應該參考操作手冊的指示操作。

不過大致的操作程序，我們簡單的說一下吧：

1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在;關位置。

2、打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

7、開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。

8、多弧離子鍍膜機當?shù)驼婵毡?amp;ldquo;2”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。

9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

10、低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕;轉至指向2區(qū)段測量位置。低真空表;內(nèi)指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。