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真空鍍膜設備的正常工作條件
真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。
那么,真空鍍膜設備的正常工作條件有哪些?我們一起來看看吧:
1、環(huán)境溫度:10~30℃
2、相對濕度:不大于70%
3、冷卻水進水溫度:不高于25℃
4、冷卻水質:城市自來水或質量相當?shù)乃?/p>
5、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波動范圍342~399V或198V~231V,頻率波動范圍49~51Hz;
6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。
7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。
此外,真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,將氣體排出室外。
氧化物怎么鍍膜?
氧化物鍍膜過程是很復雜的,但其主要影響因素就是鍍膜原料成膜的時候凝聚力、鍍膜與基材的吸附力及基材溫度,而三者之間又相互關聯(lián)約束。那氧化物的鍍膜到底是怎么個過程呢?下面我們就來聽聽真空鍍膜設備至成真空科技的講解!
從蒸發(fā)源射出的蒸汽流脫離蒸鍍原料表面的時候溫度很高,能量也比較高,在上升通過蒸發(fā)區(qū)到達基材表面的過程中,由于碰撞、運動中的能量交換導致動能下降,到達基材表面的粒子很快與基材交換能量,迅速沉積在其表面。
在鍍膜工藝中,離子轟擊改善基材的表面,在蒸發(fā)區(qū)建立等離子氣體以提高氣化微粒功能等輔助手段,較好地解決了鍍膜與基材結合牢固度的問題。其實在眾多的鍍膜工藝里,氧化物鍍膜工藝和程序是有非常大的難度的,因為它面臨著很多因素影響,環(huán)境和材料等等,但是氧化物的鍍膜工藝卻是受到廣大的企業(yè)生產(chǎn)的親睞。所以這種鍍膜工藝和設備的發(fā)展趨勢會越來越好!
真空鍍膜機是如何操作真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機的
隨著真空鍍膜機的工藝發(fā)展不斷革新,而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向發(fā)展。成為現(xiàn)代企業(yè)優(yōu)選的鍍膜工藝。今天我們通過中國真空協(xié)會的剖析后,給予詳細作答。其實鍍膜機的正常操作方法應該參考操作手冊的指示操作。
不過大致的操作程序,我們簡單的說一下吧:
1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在;關位置。
2、打開總電源開關,真空鍍膜設備送電。
3、低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。
7、開復合真空計電源(復合真空計型號:Fzh-1A)。
8、多弧離子鍍膜機當?shù)驼婵毡?amp;ldquo;2”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。
9、真空鍍膜設備開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。
10、低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序:左下旋鈕;轉至指向2區(qū)段測量位置。低真空表;內(nèi)指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥。
企業(yè): 東莞市至成真空科技有限公司
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