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真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇

很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝，大概只知道它的做用就是鍍膜，但是大家卻不知道，它的鍍膜原理以及流程，為什么它能鍍出精美的膜，包括后期這方面的工作人員該如何選擇，或者是規(guī)劃自己后期的發(fā)展，各人認為，只有你對這個行業(yè)有詳細的了解，這樣你才能做出正確的選擇。

首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程，讓大家知道，那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前，機器都要先抽真空，并且抽真空過程中要加熱，加熱的溫度取決于你工件的材質(zhì)3。當真空度達到高真空，一般在0.005Pa左右時，開始Ar離子轟擊清洗，用電弧靶主弧轟擊清洗，接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要鍍的物質(zhì)，后降溫出爐就可以了，整個鍍膜的過程就完成了，很多多人，覺的鍍膜工藝很繁瑣，技術含量很高。其實不然，只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應該注意的細節(jié)，然后精力投入進去，其實還是非常好上手的。很過剛入門的新人，一腔熱血，想要進入鍍膜行業(yè)，想要學習技術，但是卻沒有了解他到底想要學習什么技術。是鍍膜工藝技術，鍍膜設備方面的技術，很多新人對此行業(yè)了解不深，把這兩者混為一談，只是這兩者是有很大區(qū)別的，尤其是剛進入行業(yè)的新人，要切記及注意。

光學鍍膜技術在過去幾十年實現(xiàn)了飛快的發(fā)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點：

一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備：

漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設計出非常復雜的光譜性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學穩(wěn)定性。

二、磁控濺射光學鍍膜系統(tǒng)

以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表，磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單，粒子能量高，獲得的薄膜結構致密穩(wěn)定。

三、間歇式直接光控：

間歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表，光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產(chǎn)品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時間。

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機特點

中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機具有：結構合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀，插刀，銑刀，鉆頭等表面沉積超硬涂層，也可用于鐘表，眼鏡架，手機殼、鎖具，潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層，本設備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層，膜層細膩，有純鈦（Ti）氮化鈦（TiN）氧化鈦（TiO）純鋯（Zr）氮化鋯（ZrN）碳化鈦（TiC）純鉻（Cr）氮化鉻（CrN）碳氮化鈦（TiCN）氮化鋁鈦（TiAlN），PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有：深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色,藍色等。亮度好，飽滿度好

至成真空科技可以根據(jù)用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設計配置。