【廣告】
真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇
很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝,大概只知道它的做用就是鍍膜,但是大家卻不知道,它的鍍膜原理以及流程,為什么它能鍍出精美的膜,包括后期這方面的工作人員該如何選擇,或者是規(guī)劃自己后期的發(fā)展,各人認為,只有你對這個行業(yè)有詳細的了解,這樣你才能做出正確的選擇。
首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程,讓大家知道,那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前,機器都要先抽真空,并且抽真空過程中要加熱,加熱的溫度取決于你工件的材質(zhì)3。當真空度達到高真空,一般在0.005Pa左右時,開始Ar離子轟擊清洗,用電弧靶主弧轟擊清洗,接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底,然后通入要鍍的物質(zhì),后降溫出爐就可以了,整個鍍膜的過程就完成了,很多多人,覺的鍍膜工藝很繁瑣,技術含量很高。其實不然,只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應該注意的細節(jié),然后精力投入進去,其實還是非常好上手的。很過剛入門的新人,一腔熱血,想要進入鍍膜行業(yè),想要學習技術,但是卻沒有了解他到底想要學習什么技術。是鍍膜工藝技術,鍍膜設備方面的技術,很多新人對此行業(yè)了解不深,把這兩者混為一談,只是這兩者是有很大區(qū)別的,尤其是剛進入行業(yè)的新人,要切記及注意。
光學鍍膜技術在過去幾十年實現(xiàn)了飛快的發(fā)展,從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術。近年來在這些沉積技術和裝備領域的主要技術有以下三點:
一、漸變折射率結構薄膜技術與裝備:
漸變折射率結構薄膜技術與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實Rugate無界面型薄膜結構和準Rugate多種折射率薄膜結構通過加強調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布,能設計出非常復雜的光譜性能,(部分)消除
了薄膜界面特征,(部分)消除界面效應,如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射,也可以增加了薄膜力學穩(wěn)定性。
二、磁控濺射光學鍍膜系統(tǒng)
以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表,磁控濺射技術及裝備在精密光學領域和消費光電子薄膜領域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單,粒子能量高,獲得的薄膜結構致密穩(wěn)定。
三、間歇式直接光控:
間歇式直接光控:以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表,光學鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng),對鍍膜過程產(chǎn)品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng),間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差,可以進一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時間。
中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機特點
中頻磁控 多弧離子濺射鍍膜機具有:結構合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點。廣泛應用于切削刀具如齒輪滾刀,插刀,銑刀,鉆頭等表面沉積超硬涂層,也可用于鐘表,眼鏡架,手機殼、鎖具,潔具等各類小五金表面沉積裝飾涂層,本設備可實現(xiàn)一機多用沉積多種膜層,膜層細膩,有純鈦(Ti)氮化鈦(TiN)氧化鈦(TiO)純鋯(Zr)氮化鋯(ZrN)碳化鈦(TiC)純鉻(Cr)氮化鉻(CrN)碳氮化鈦(TiCN)氮化鋁鈦(TiAlN),PVD鍍膜膜層目前常見的顏色主要有:深金黃色,淺金黃色,咖啡色,古銅色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色,藍色等。亮度好,飽滿度好
至成真空科技可以根據(jù)用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進行設計配置。
企業(yè): 東莞市至成真空科技有限公司
手機: 13926868291
電話: 0769-85622826
地址: 東莞市萬江區(qū)流涌尾工業(yè)區(qū)汾溪路450號