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此時(shí)要注意手不能直接接觸到器件鍍膜表面(可以用工具例如鑷子等，武漢激光蝕刻機(jī)制作標(biāo)牌機(jī)器，戴指套或橡膠手套)，鋼板激光蝕刻機(jī)制作標(biāo)牌機(jī)器，且擦拭時(shí)要順著一個(gè)方向。    主要部件保養(yǎng)建議（頻率視設(shè)備使用情況靈活調(diào)整）    1.出現(xiàn)異常現(xiàn)象時(shí)，首先切斷一切電源，再進(jìn)行檢查；    2.機(jī)器應(yīng)該放在通風(fēng)的地方或恒溫室中，因?yàn)槌^(guò)某一溫度后，會(huì)影響激光器正常工作；    3.保持室內(nèi)及設(shè)備表面整潔干凈；    4.定期檢查各光學(xué)器件是否有污染，如有污染時(shí)清潔；    5.不要重壓升降平臺(tái)，防止精度降低；






離子植入：其是用來(lái)控制半導(dǎo)體中雜質(zhì)量的關(guān)鍵程序，數(shù)碼激光蝕刻機(jī)制作標(biāo)牌機(jī)器，對(duì)半導(dǎo)體表面附近區(qū)域進(jìn)行摻雜技術(shù)。優(yōu)點(diǎn)在于雜質(zhì)量的控制，雜質(zhì)分布的再重整，及低溫下操作。    離子植入機(jī)主要的供廠商為AMAT，中國(guó)部份只有中電科電子裝備公司能供應(yīng)。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)離子植入機(jī)需求可達(dá)5億美元與7億美元。    沉積：PVD沉積為一種物理制程，此技術(shù)一般使用等惰性氣體，藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后，將靶材原子一個(gè)個(gè)濺擊出來(lái)，使被濺擊出來(lái)的材質(zhì)沉積在晶圓表面。    薄膜沉積設(shè)備主要的供應(yīng)商包含應(yīng)用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國(guó)相關(guān)設(shè)備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽(yáng)拓荊等。北方華創(chuàng)是中國(guó)薄膜沉積設(shè)備，目前技術(shù)已達(dá)到14nm。市場(chǎng)預(yù)計(jì)今明兩年中國(guó)薄膜沉積設(shè)備需求可達(dá)15億美元與20億美元。    測(cè)試：在晶圓完成制造之前，會(huì)有一道晶圓中測(cè)工序。在測(cè)試過(guò)程中，會(huì)檢測(cè)每一個(gè)芯片的電路功能。




一般的工件在腐蝕機(jī)腐蝕前要做的絲印工序：油墨調(diào)配—定位—絲印—檢查—干燥—轉(zhuǎn)蝕刻工序。    主要工序要求：    1、油墨的調(diào)配    油墨調(diào)配在絲印工作中是一個(gè)很重要的工作，如果油墨沒(méi)有調(diào)好，在絲印時(shí)容易產(chǎn)生氣泡，環(huán)保激光蝕刻機(jī)制作標(biāo)牌機(jī)器，白點(diǎn)等質(zhì)量缺陷。油墨調(diào)好后用200目左右的絲網(wǎng)過(guò)濾，并放置過(guò)夜使油墨中的氣泡逸出。    2、定位    是絲印臺(tái)、絲網(wǎng)版和工件三者之間的物理組合。絲印臺(tái)有自動(dòng)和手動(dòng)之分。手動(dòng)絲印臺(tái)為常用。定位是指將絲網(wǎng)版上的圖文在絲印臺(tái)上和工件上設(shè)計(jì)規(guī)定的位置重合。    3、絲印    絲印需要用刮板，常用的是聚酯刮板，刮板長(zhǎng)度應(yīng)比絲印圖文距離每邊長(zhǎng)約30mm~50mm。絲印時(shí)用力要均勻，刮板在絲網(wǎng)版上要保持勻速運(yùn)動(dòng)，不可時(shí)快時(shí)慢。每完成一個(gè)絲印過(guò)程要回墨，將圖文用油墨保護(hù)起來(lái)，防止油墨中的稀釋劑揮發(fā)過(guò)快而產(chǎn)生堵網(wǎng)。




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