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藍(lán)光同茂智能蝕刻設(shè)備(圖)-鋼板腐蝕機(jī)供應(yīng)商-濱州鋼板腐蝕機(jī)

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發(fā)布時(shí)間:2022-07-30 03:27  

NH4Cl濃度對(duì)蝕刻的影響:從溶液再生的化學(xué)反應(yīng)式可以看出,[Cu(NH3)2]-的再生過(guò)程需要有大量的NH3-H2O和NH4Cl的存在,如果蝕刻機(jī)藥液缺乏NH4Cl,將使[Cu(NH3)2]-得不到再生,蝕刻速度就會(huì)降低,以至于失去蝕刻能力。所以,NH4Cl的含量對(duì)蝕刻速度影響很大。但是,溶液中Cl-含量過(guò)高會(huì)引起抗蝕層侵蝕,鋼板腐蝕機(jī)機(jī)械設(shè)備,一般濃度控制在150g/L左右為宜。

溫度對(duì)蝕刻速度的影響:當(dāng)蝕刻溫度低于40℃時(shí),蝕刻速度很慢,而蝕刻速率過(guò)慢會(huì)增大側(cè)蝕量,影響蝕刻精度。溫度高于60℃,蝕刻速率明顯加快,但氨的揮發(fā)量也大大增加,導(dǎo)致環(huán)境污染的同時(shí)使溶液中化學(xué)成分比例失調(diào),故一般蝕刻機(jī)工作溫度控制在45℃~55℃為宜。










刻蝕相對(duì)光刻要容易。光刻機(jī)把圖案印上去,然后刻蝕機(jī)根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案(或者沒(méi)有圖案)的部分,留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓(或者叫硅片)上蓋上事先做好的光刻板,然后用紫外線隔著光刻板對(duì)晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì),易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后,用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉(正膠),晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對(duì)晶圓腐蝕,形成半導(dǎo)體器件及其電路。

擴(kuò)展資料:

光刻機(jī)一般根據(jù)操作的簡(jiǎn)便性分為三種,鋼板腐蝕機(jī)供應(yīng)商,手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)

1.手動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)的調(diào)節(jié)方式,是通過(guò)手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來(lái)完成對(duì)準(zhǔn),對(duì)準(zhǔn)精度可想而知不高了;

2.半自動(dòng):指的是對(duì)準(zhǔn)可以通過(guò)電動(dòng)軸根據(jù)CCD的進(jìn)行定位調(diào)諧;

3.自動(dòng): 指的是 從基板的上載,曝光時(shí)長(zhǎng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制,自動(dòng)光刻機(jī)主要是滿足工廠對(duì)于處理量的需要。






蝕刻設(shè)備的選擇

不管采用什么樣的蝕刻方法,都少不了與之配套的蝕刻設(shè)備,濱州鋼板腐蝕機(jī),對(duì)于噴淋式蝕刻,需要購(gòu)買合適的蝕刻機(jī),蝕刻機(jī)傳輸式的蝕刻機(jī)也有非傳輸式噴射蝕刻機(jī),傳輸式蝕刻機(jī)適用于批量生產(chǎn),非傳輸式噴射蝕刻機(jī)適用于中小規(guī)模的生產(chǎn),這種類型的蝕刻機(jī)一般都難以自制,而必須去設(shè)備廠定做或者在設(shè)備市場(chǎng)購(gòu)買,蝕刻機(jī)選擇的原則主要由生產(chǎn)量決定,這里所指的生產(chǎn)量是指可以預(yù)計(jì)一段時(shí)間內(nèi)的平均日產(chǎn)量。

如果采用浸泡式蝕刻就需要一定體積的蝕刻槽,蝕刻槽體的材料根據(jù)蝕刻液的性質(zhì)而定,對(duì)于堿性蝕刻,鋼板腐蝕機(jī)金屬上刻字,大多采用不銹鋼材料,并要注意有保溫裝置,對(duì)于酸性蝕刻體系,可采用 PP材質(zhì)制作,對(duì)于大型的蝕刻槽可以采用不銹鋼加內(nèi)襯軟PP材料制作。






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