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edi純水設(shè)備生產(chǎn)-瑞爾環(huán)保凈無止境-唐山edi純水設(shè)備

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發(fā)布時間:2023-03-10 04:12  





如何確保超純水設(shè)備出水水質(zhì)達(dá)標(biāo)?

如何確保超純水設(shè)備出水水質(zhì)達(dá)標(biāo)?

超純水設(shè)備制備超純水的品質(zhì)在一定程度上取決于設(shè)備本身及日常使用過程中正確操作,以保持超純水的質(zhì)量。那么,要如何確保超純水設(shè)備出水水質(zhì)達(dá)標(biāo)?

1、超純水設(shè)備儲水桶應(yīng)配備空氣過濾器,防止空氣通過進水口進入儲水桶,edi純水設(shè)備生產(chǎn),造成水質(zhì)污染。

2、超純水取水后易受環(huán)境因素污染,需要用水時應(yīng)立即使用,盡量減少超純水與環(huán)境的接觸。

3、水箱應(yīng)避免放置在陽光直射的地方。

4、應(yīng)盡量避免將超純水長期儲存在儲水桶中,以防止因長期儲存而導(dǎo)致水質(zhì)下降。

5、超純水取水使用時,應(yīng)先排出初始超純水,然后采用取水容器取水。

6、超純水設(shè)備長期不用時,應(yīng)將壓力儲水桶內(nèi)的純水全部排出,防止污染。

7、超純水設(shè)備短期不使用時,需要每周開機通水一次,以防止細(xì)菌滋生。

8、取水時,edi純水設(shè)備價格,應(yīng)盡量避免產(chǎn)生水泡影響水質(zhì)。



超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求

超純水設(shè)備出水符合芯片生產(chǎn)用水需求 在芯片生產(chǎn)中,幾乎每一道工序都需要超純水清洗,工件與水直接接觸。一旦水質(zhì)不達(dá)標(biāo)或水中含有雜質(zhì),edi純水設(shè)備廠家,就會降低設(shè)備性能,降低產(chǎn)量。確保超純水的質(zhì)量是我國自主研發(fā)芯片的重要基礎(chǔ)。傳統(tǒng)的超純水生產(chǎn)工藝采用陰離子樹脂交換設(shè)備。這種工藝的缺點是樹脂在使用一段時間后會頻繁地再生,增加成本。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟,萊特萊德采用反滲透工藝,或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產(chǎn)超純水,出水電導(dǎo)率可達(dá)18.2MΩ,滿足芯片行業(yè)用水需求。隨著芯片制造工藝中對設(shè)計的需求更小,對純水水質(zhì)的要求也越來越嚴(yán)格。萊特萊德芯片超純水設(shè)備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細(xì)菌、有機物和微生物,從而達(dá)到行業(yè)用水要求。



超純水的水質(zhì)直接關(guān)系到半導(dǎo)體成品率

在半導(dǎo)體生產(chǎn)中,超純水可用于晶圓漂洗、化學(xué)稀釋、化學(xué)機械研磨、潔凈室環(huán)境的加濕源等。超純水的質(zhì)量直接關(guān)系到半導(dǎo)體的成品率,隨著半導(dǎo)體元件尺寸的縮小和細(xì)度的提高,唐山edi純水設(shè)備,對超純水質(zhì)量的技術(shù)要求也在不斷提高。

在超純水生產(chǎn)過程中,只要微粒子、電阻率和TOC與氣泡中的某一指標(biāo)稍有差異,就會使半導(dǎo)體元件生產(chǎn)的合格率下降。



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