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化學沉鎳金鎳不達標是為什么
近年來,在無鉛化的大背景下,PCB產(chǎn)業(yè)隨之發(fā)生重大變化,表面處理工藝亦然如此。沉金工藝在諸多選擇中可謂異軍突起,因其固有的優(yōu)點,其所占比重迅速提高,當前已經(jīng)占據(jù)PCB總量的半壁江山。但沉金工藝又有其難以克服的,鎳腐蝕問題就是一直困擾沉金的難題。關于鎳腐蝕問題,國內(nèi)外同行都做了許多方面的研究,沉鎳電鍍廠,盡管對鎳腐蝕控制取得長足的進步,然而對此問題的認識、理解依舊不盡而一。實際生產(chǎn)中鎳腐蝕問題仍是難以,沉鎳,沉金焊接性投訴還是時有發(fā)生。
用化學沉鎳沉積的鍍層,有一些不同于電沉積層的特性。
以次磷酸鈉為還原劑時,由于有磷析出,發(fā)生磷與鎳的共沉積,不銹鋼沉鎳,所以化學沉鎳層是磷呈彌散態(tài)的鎳磷合金鍍層,鍍層中磷的質(zhì)量分數(shù)為1%~l5%,控制磷含量得到的鎳磷鍍層致密、無孔,耐蝕性遠優(yōu)于電鍍鎳。以硼氫化物或氨基為還原劑時,化學沉鎳層是鎳硼合金鍍層,硼的含量為1%~7%。只有以肼作還原劑得到的鍍層才是純鎳層,含鎳量可達到99.5%以上。
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