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鉻酐的水溶液是鉻酸,是鉻涂層的來源。結果表明,模具電鍍價格,鉻酐的濃度變化范圍較廣。比如,在45~50℃、l0A/dm2和l0A/dm2的陰ji電流密度下,鉻酐濃度在50~500g/L范圍內變化,甚至達到800g/L以上,可以得到光亮鍍鉻層。但是,這并不意味著可以任意改變鉻酐濃度,一般生產中所采用的鉻酐濃度在l50~400g/L之間。
鍍液中鉻酐的濃度對鍍液電導率起決定作用,可以了解到每一溫度下鉻酐的含量對應于較高電導率,模具電鍍,隨著鍍液溫度的升高,電導率zui大值隨鍍液溫度的升高而變大。所以,單就電導率而言,模具電鍍拋光,選擇鉻酐濃度較高的鍍鉻液比較好。
但是,在使用電鍍硬鉻的高濃度鉻酸電解液時,由于工件帶出嚴重的損耗,一方面造成了材料的浪費,另一方面也給環(huán)境帶來了污染。但是,低濃度的鍍液對雜質金屬離子的敏感度低,覆蓋能力差。
鉻酐濃度過高或過低會縮小獲得明亮涂層的溫度和電流密度范圍。低鉻酐鍍液的電流,主要用于電鍍硬鉻。鍍液主要用于裝飾電鍍,鍍液性能雖與鉻酐量有關,但主要的還是取決于鉻酐和硫酸的比例。
電鍍污水進行模具電鍍的必要性:
電鍍污水的組成很復雜,處理方法也很多,普遍采用的方法有:物理法,化學法、生物法及物理化學法。其中以化學法為主的處理技術具有成本低、技術較成熟等特點,一般其他處理方法會予以適當?shù)妮o助。
據(jù)統(tǒng)計,在中國,大約有41%的電鍍廠采用化學法處理電鍍污水;在日本,化學法占治理總數(shù)的85%左右。此方法具有操作簡單可靠、投資少、能承受大水量和高濃度負荷、效果穩(wěn)定等優(yōu)點,模具拋光電鍍,適合各類型電鍍企業(yè)的污水治理,但是,同時存在著電鍍污泥二次污染問題,企業(yè)一般委托有資質的單位進行處置。
真空電鍍的簡單作用過程:真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源,真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子,陰極吸引下,隨同離子一同沖向工件,真空電鍍當拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時,真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。
電鍍已經(jīng)遍及國民經(jīng)濟各個生產和科學領域中,尤其在機器制造、電信、交通、輕工業(yè)等行業(yè)已成為不可缺少的一部分。在化工生產電鍍廣泛應用于提高各種軸類、套類等零部件的耐磨,抗腐蝕性能;在使用于各種高壓墊圈的密封防腐以及各種機械磨損和加工件的修復尺寸等方面起到越來越重要的作用。
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