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PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較,PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn):● 膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng),更加持久和耐磨● 離子的繞射性能好,能夠鍍形狀復(fù)雜的工件● 膜層沉積速率快,生產(chǎn)● 可鍍膜層種類廣泛● 膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認(rèn)證,可植入人體)。
真空鍍層通常較薄(不超過0.2 μm),樂從真空鍍膜加工,耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用,真空鍍膜加工廠,還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括:
(1)對(duì)鍍層有較高的附著力,這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);
(2)應(yīng)具有足夠的耐磨性,以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;
(3)具有較高的阻隔性,即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性,真空鍍膜加工價(jià)格,阻止氧氣等對(duì)鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層,保護(hù)鍍層免受腐蝕;
(4)面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);
(5)對(duì)于需要突出光亮度的真空鍍膜場合,面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。
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