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真空離子鍍膜

真空離子鍍膜是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜新技術(shù)。通過在等離子體中進行整個氣相沉積過程，真空離子鍍膜工藝大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優(yōu)異性能的膜層，擴大了“薄膜”的應用領(lǐng)域。

優(yōu)點：附著力強，不易脫落；改善了膜層的覆蓋性；鍍層質(zhì)量高；成膜速度快；密度高、晶粒小。

pvd鍍膜

pvd真空鍍膜主要以電鍍不銹鋼產(chǎn)品配件為主，爐內(nèi)真空電鍍，金屬pvd鍍膜，綠色環(huán)保，可以快速成膜，鍍層穩(wěn)定性高，色澤均勻，抗腐蝕性強，已經(jīng)成為了五金件，五金pvd鍍膜加工，電子數(shù)碼行業(yè)的主要選擇。pvd鍍膜

PVD涂層在制造業(yè)上已經(jīng)得到廣泛應用，模具制造、器械、五金成型、航空電子、粉末冶金，注塑螺桿、精密部件等領(lǐng)域廣發(fā)使用。

PVD裝飾鍍，北滘pvd鍍膜，沉積速度快，硬度低，膜層薄，主要以工件表面的裝飾性為主，可以形成多樣化的顏色，五金pvd鍍膜公司，金色、咖啡色、古銅色、七彩色等。主要做一些裝飾件的表面和要求外觀的五金件。

真空鍍膜的種類：在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜原理：它是將膜材置于真空鍍膜室內(nèi)，通過蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā)。當蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線尺寸后，蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面上逸出。


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