瑞爾環(huán)保精工品質(zhì)-半導體純水設備安裝-保定半導體純水設備

EDI超純水設備工作原理

半導體材料是在集成電路、消費電子、通信系統(tǒng)、光伏發(fā)電等領域進行應用的。半導體材料在應用中會需要一定量的超純水，半導體純水設備安裝，可用于清洗，該超純水電阻率達到了18兆歐，不含導電介質(zhì)和金屬離子，可滿足作為半導體清洗用水的需求。采用兩級RO EDI 精混床除鹽水處理工藝，處理后的水質(zhì)可達到18MΩ.CM以上，符合半導體用水標準。設備采用如今大熱的膜技術，可有效去除水中的導電介質(zhì)，以及水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物，設備的出水純度高，無病毒與細菌，不含任何懸浮物、無化學污染，保定半導體純水設備，產(chǎn)出的可謂是高品的超純水了

超純水系統(tǒng)的四條維護要點

超純水系統(tǒng)的四條維護要點

1、對于進水的預處理問題。

預處理中的砂濾器和碳濾器，在使用過一段時間后砂碳會積累一些泥沙、雜質(zhì)膠體等較大的顆粒物，需要進行定期的反沖洗，從而提高過濾效果。

2、膜元件維護。

超純水系統(tǒng)中的反滲透膜作為重要部件，需要細心維護。在設計系統(tǒng)時應該設置自動沖洗功能，半導體純水設備廠家，用以沖走膜片表面的污物，恢復膜通量。

3、定期檢查。

運行中我們要定期對系統(tǒng)進行檢查，半導體純水設備價格，以免出現(xiàn)故障。例如檢查和調(diào)整必要的零部件、壓力閥門等，還有查看壓力儀表作好記錄。

4、及時清洗。

定期擦拭設備內(nèi)外表面的死角部位，清除表面污垢。并且超純水系統(tǒng)停運時，應及時用清水沖凈管道中的殘液，否則殘液變質(zhì)后會影響再次啟動后的正常運行以及產(chǎn)水。

EDI超純水設備中的EDI其實是電去離子的英文簡稱，它是將電滲析和離子交換技術結(jié)合起來的一種深度脫鹽技術。在電滲析的淡水室隔板中填充離子交換樹脂，保留電滲析可連續(xù)脫鹽及離子交換樹脂深度脫鹽的優(yōu)點。同時又克服了電滲析濃差極化所造成的不良影響，運用技術將離子的電遷移技術結(jié)合形成的制備超純水的技術，符合綠色環(huán)保理念，既簡化了處理工藝又避免了環(huán)境污染。

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