輕金屬微弧氧化-日照微弧養(yǎng)護(hù)技術(shù)-輕金屬微弧氧化設(shè)備

合金材料及表面狀態(tài)對微弧氧化的影響

       微弧氧化技術(shù)對鋁基工件的合金成分要求不高，輕金屬微弧氧化電源，對一些普通陽極氧化難以處理的鋁合金材料，如含銅、高硅鑄鋁合金的均可進(jìn)行微弧氧化處理。對工件表面狀態(tài)也要求不高，一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工件，經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整；而對于粗糙度較低的工件，經(jīng)微弧氧化后，輕金屬微弧氧化設(shè)備，表面粗糙度有所提高。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復(fù)雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。

微弧氧化技術(shù)特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達(dá)3000HV，輕金屬微弧氧化技術(shù)，可與硬質(zhì)合金相媲美，輕金屬微弧氧化，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應(yīng)在常溫下進(jìn)行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結(jié)合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

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