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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,梅州派瑞林LED防水鍍膜,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。Parylene HT(SCS)該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達450攝氏度,長期耐溫可達350攝氏度,并具有強的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護材料。
Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐,、 低阻滯性、低摩擦系數(shù)及生物相容性,在國際臨床運用的生物的表面涂層上,將逐步取代TiNi(鎳鈦)合金涂層而被列為*材料。如骨釘、探針、針頭、臨時手術器械、導尿管、制動器及耳蝸植入器,心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術刀等微型電子。
釹鐵硼稀土磁性材料是一種問世不久的新型強磁材料。目前國內(nèi)常用兩種方法進行防護,一種是傳統(tǒng)的電鍍工藝在 鐵硼磁性材料表面鍍上鎳、鋅或錫、金等。這些涂層有時會影響磁性材料的表磁等特性,有的在鹽霧試驗時仍不能對釹鐵硼磁性材料提供有效的防護。另一種方法是用環(huán)氧樹脂材料進行電泳涂敷,但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點,掛點的修補不僅費工費時,而且質(zhì)量難以保證,而Parylene涂層技術可控制涂層厚度進行無支點全涂敷防護。派瑞林(Parylene)又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料,目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用派瑞林(Parylene)進行防護。
用制備派瑞林的方法是化學氣相沉積法(CVD),反應物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學反應,在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì),進而在基材表面形成涂層的一種工藝技術。派瑞林薄膜制備過程為環(huán)狀二聚體在高溫下兩個相連碳碳鍵斷裂,生成具有活性的對二亞苯單體,當其從高溫環(huán)境進入室溫環(huán)境的沉積室時,不穩(wěn)定的單體就會聚合成膜。整個制備工藝過程分為三步:單體的汽化、裂解、在基材表面進行附著沉積。
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