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PVD是物理氣相沉積(PhysicalVaporDeition)的縮寫。 低電壓大電流的電弧放電技術(shù),在真空條件下通過氣體放電使目標物質(zhì)蒸發(fā),使蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體電離。電場的加速作用是將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD電鍍的優(yōu)點 金屬外觀,惠州五金電鍍,色澤均勻,真空電鍍,表面耐用,在各種基本空氣和陽光直射條件下具有性外觀?!ど钌?、明亮、經(jīng)濟的顏色可以減少清洗和拋光電鍍黃銅或黃金所需的時間和成本?!きh(huán)保,廣州五金電鍍廠,避免化學(xué),深圳五金電鍍,生物相容性好
真空電鍍
真空電鍍是在真空條件下用蒸發(fā)器加熱待蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化并向基板運輸在基板上冷凝形成固態(tài)薄膜的過程。
真空電鍍原理及特點
它是將鍍膜材料置于真空鍍膜室內(nèi),通過蒸發(fā)源使其加熱蒸發(fā)。當(dāng)蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的尺寸后,蒸發(fā)的粒子從蒸發(fā)源表面溢出,在飛向基片表面過程中很少碰到其他例子(主要是殘余氣體分子)的碰撞阻礙,直接到達基材表面上凝結(jié)而生成薄膜。
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