AF真空鍍膜機(jī)量大從優(yōu)「至成真空科技」

真空鍍膜機(jī)給物件鍍膜,為什么要在真空狀態(tài)下進(jìn)行?

真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生活中，大家對(duì)它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應(yīng)用領(lǐng)域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機(jī)在給物件鍍上一層膜的時(shí)候，為什么要選擇在真空狀態(tài)下進(jìn)行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無(wú)法形成理想的薄膜，事實(shí)上，如在壓力不夠低(或者說(shuō)真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結(jié)果，比如在10托數(shù)量級(jí)下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機(jī)械強(qiáng)度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進(jìn)行，這是因?yàn)椋?

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運(yùn)動(dòng)，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運(yùn)動(dòng)的速度相當(dāng)?shù)母?可達(dá)每秒幾百米)，但是由于它在前進(jìn)的過(guò)程中要與其它分子多次碰撞，一個(gè)分子在兩次連續(xù)碰撞之間所走的距離被稱(chēng)為它的自由程，而大量分子自由程的統(tǒng)計(jì)平均值就被稱(chēng)為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內(nèi)含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳?xì)浠衔锏?，它們能給薄膜的鍍制帶來(lái)極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應(yīng)；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命；它們?cè)谝颜舭l(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過(guò)程不能順利進(jìn)行。

電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)應(yīng)用及特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛運(yùn)用到我們的生活中，以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長(zhǎng)壽命，防止腐蝕。然而隨著人民的生活質(zhì)量不斷的提升，對(duì)于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長(zhǎng)使用壽命上，同時(shí)更多關(guān)注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機(jī)在日常生活中運(yùn)用無(wú)處不在，使用的行業(yè)不一樣，鍍的產(chǎn)品不一樣，鍍膜機(jī)的型號(hào)是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)應(yīng)用及特點(diǎn)。

首先簡(jiǎn)單為大家介紹一下蒸發(fā)系列卷繞真空鍍膜機(jī)，它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產(chǎn)品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運(yùn)行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護(hù)方便、性能穩(wěn)定等特點(diǎn)

電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時(shí)，蒸發(fā)出來(lái)的原子或分子就會(huì)吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發(fā),一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔稀?

那么電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)有哪些呢？

（1）卷饒系統(tǒng)采用支流或交流變頻調(diào)速，具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高、對(duì)原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面征集等特點(diǎn)；

（2）張力控制采用進(jìn)口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，動(dòng)作快速的特點(diǎn)；

（3）各組送絲由微機(jī)電機(jī)獨(dú)立控制，可總調(diào)或單獨(dú)調(diào)速，并有速度顯示；

（4）真空系統(tǒng)配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；

（5）配備大功率電源，鍍膜，膜層均勻性好。

多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)

很多朋友問(wèn)我關(guān)于多弧離子真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)方面的問(wèn)題，當(dāng)時(shí)給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光放電放出的陰極物質(zhì)的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發(fā)的靶材接陰極，真空室為陽(yáng)極，當(dāng)觸發(fā)電極與陰極靶突然瞬間接觸時(shí)，就會(huì)引起電弧，在陰極表面產(chǎn)生強(qiáng)烈發(fā)光的陰極弧光斑點(diǎn)，斑點(diǎn)直徑在100?m以下，斑點(diǎn)內(nèi)的電流密度可達(dá)103~107A/cm2于是在這一區(qū)域內(nèi)的材料就瞬時(shí)蒸發(fā)并電離。陰極弧光斑點(diǎn)在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng)，外加磁場(chǎng)用來(lái)控制輝點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認(rèn)為，放電過(guò)程的電量遷移是借助于場(chǎng)電子發(fā)射和正離子電流這兩種機(jī)制同時(shí)存在且相互制約而實(shí)現(xiàn)的。

在放電過(guò)程中，陰極材料大量蒸發(fā)，這些蒸汽分子產(chǎn)生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內(nèi)產(chǎn)生極強(qiáng)的電場(chǎng)，在這樣強(qiáng)的電場(chǎng)作用下，電子以產(chǎn)生以場(chǎng)電子發(fā)射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，使陰極表面上功函數(shù)小的點(diǎn)(晶界或裂痕)開(kāi)始發(fā)射電子。個(gè)別發(fā)射電子密度高的點(diǎn)，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產(chǎn)生熱電子，進(jìn)一步增加發(fā)射電子。這個(gè)正反饋?zhàn)饔檬闺娏骶植考?。由于電流局部集中產(chǎn)生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發(fā)性地等離子化，發(fā)射電子和離子，并留下放電痕。同時(shí)也放出熔融的陰極材料粒子。發(fā)射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，又使新的功函數(shù)小的點(diǎn)開(kāi)始發(fā)射電子。

PACVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機(jī)系統(tǒng)的特點(diǎn)：

（1）2個(gè)等離子激發(fā)源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場(chǎng)非平衡磁控管濺射（3）帶有一個(gè)前門(mén)的六角形真空室，保證一個(gè)潔凈的環(huán)境（4）干式真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)安裝在一個(gè)單獨(dú)的空間，處理高吞吐量的碳?xì)浠衔锖推渌に嚉怏w（5）基材和導(dǎo)電與非導(dǎo)電涂層及組合原位清洗的離子激發(fā)系統(tǒng)（6）可選擇的等離子體激發(fā)模式和頻率使等離子的密度和能量適應(yīng)基材增壓特性，以小壓強(qiáng)進(jìn)行電離作用（8）單獨(dú)的PACVD工藝中不強(qiáng)制轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)候，一種行星式轉(zhuǎn)動(dòng)也能夠使濺射涂層統(tǒng)一沉積（9）特別是在PACVD過(guò)程特殊設(shè)計(jì)的進(jìn)氣系統(tǒng)能夠優(yōu)化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調(diào)節(jié)，保證了涂層系統(tǒng)的高可靠性（11）iFIX基礎(chǔ)的控制系統(tǒng)，易于批次、配方和報(bào)警處理（12）所有數(shù)據(jù)的采集，保證良好的過(guò)程控制。工藝過(guò)程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運(yùn)行過(guò)程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶可自行設(shè)置進(jìn)入控制系統(tǒng)的權(quán)限，以保證系統(tǒng)的質(zhì)量和安全性