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在進一步分析陽極復膜成像原理前有必要特別說明:一定要避免混淆不同光學技術(shù)的成像原理。這是因為,有些研究人員將電解陽極化處理后在偏光加“波片”條件下觀察時的彩色0圖像效果混同于微差干涉襯度(DIC)技術(shù)的彩色0圖像效果,或者簡單混同于薄膜干涉成像技術(shù)的效果。通過下面的表格可以簡單地了解陽極復膜成像、成色與其它不同成像技術(shù)的差異。陽極氧化廠,河南陽極氧化,陽極氧化工藝,陽極氧化檢測,金屬陽極氧化,鋁合金陽極氧化
陽極氧化陽極氧化電解溶液的選擇 陽極氧化膜生長的一個先決條件是,電解液對氧化膜應有溶解作用。陽極氧化但這并非說在所有存在溶解作用的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質(zhì)相同。陽極氧化適用于陽極氧化處理的酸性電解液鋁氧化工藝,陽極氧化廠,陽極氧化工藝,陽極氧化哪家好,陽極氧化檢測,金屬陽極氧化,鋁合金陽極氧化。陽極氧化
先將產(chǎn)品放在18~22℃的1:1硝0酸中浸泡10min,擦干,稱重,再在90~92℃酸化亞硫酸鈉溶液(10g/L,PH=2.5)中浸泡20min,擦干,稱重,計算質(zhì)量損失來衡量封孔質(zhì)量;(ISO2932-1981、GB/T14592.2-1994) 4.4 乙0酸-乙0酸鈉試驗 先將產(chǎn)品放在18~22℃的1:1硝0酸中浸泡10min,擦干,稱重,再在沸騰的乙0酸-乙0酸鈉溶液中(乙0酸的濃度為0.5g/L,乙0酸濃度為100mL/L,陽極氧化技術(shù),)浸泡15min,擦干,稱重,計算質(zhì)量損失來衡量封孔質(zhì)量;(ISO2932-1981、GB/T14592.2-1994)陽極氧化廠,陽極氧化工藝,陽極氧化工藝,陽極氧化檢測,金屬陽極氧化,鋁合金陽極氧化
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