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鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能
檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長(zhǎng)期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)
光 源
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz
輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:< 0.1%
儀器規(guī)格
尺寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重 量:約 180kg
光學(xué)系統(tǒng)
分析譜線范圍:165-950nm
分 辨 率: 0.007nm@200nm
光室恒溫:38℃ ±0.1℃
CCD 像素:1024x 1024
單像素面積:24μm x 24μm
工作環(huán)境
實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境:相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%
排 風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)
電 源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA
由鋼研納克承擔(dān)的國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專(zhuān)項(xiàng)開(kāi)發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問(wèn)題,原子發(fā)射icp光譜儀廠家,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計(jì)的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個(gè)關(guān)鍵、難點(diǎn)技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)原理。為高質(zhì)量、按期完成項(xiàng)目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)任務(wù)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
Plasma 2000 技術(shù)特點(diǎn)
1. 優(yōu)異的光學(xué)系統(tǒng)
2. 固態(tài)有效射頻發(fā)生器,體積更加小巧
3. 流程自動(dòng)化,狀態(tài)監(jiān)控及自動(dòng)保護(hù)
4. 科研級(jí)檢測(cè)器,極高的紫外量化效率
5. 強(qiáng)大分析譜線
6. 信息直觀豐富
7. 多窗口多方法
8. 編輯功能強(qiáng)大
9. 智能譜圖標(biāo)定
10. 智能干擾矯正
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