山西光刻膠-北京賽米萊德有限公司-光刻膠廠家

光刻膠介紹

以下內容由賽米萊德為您提供，今天我們來分享光刻膠的相關內容，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助！

光刻膠是電子領域微細圖形加工關鍵材料之一，是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，其溶解度發(fā)生變化，經(jīng)適當溶劑處理，溶去可溶性部分，光刻膠廠家，然后得到所需圖像。 光刻膠作為技術門檻極高的電子化學品一直被國際企業(yè)壟斷。 隨著大力研發(fā)和投入，山西光刻膠， 國內企業(yè)已逐步從低端 PCB 光刻膠發(fā)展至中端半導體光刻膠的量產(chǎn)。

光刻膠的分類

以下是賽米萊德為您一起分享的內容，光刻膠公司，賽米萊德生產(chǎn)光刻膠，歡迎新老客戶蒞臨。

硅片制造中，光刻膠的目的主要有兩個：（1）將掩模版圖形轉移到硅片表面頂層的光刻膠中；（2）在后續(xù)工藝中，保護下面的材料（例如刻蝕或離子注入阻擋層）。

分類

光刻膠的技術復雜，品種較多。根據(jù)其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，光刻膠供應商，經(jīng)光照后變成可溶物質的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比結果示意圖 [2]  。

光刻膠的未來發(fā)展

以下內容由賽米萊德為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

由于光刻膠的技術壁壘較高，國內光刻膠市場基本被國外企業(yè)壟斷。特別是高分辨率的KrF和ArF光刻膠，基本被日本和美國企業(yè)占據(jù)。  

國內光刻膠生產(chǎn)商主要生產(chǎn)PCB光刻膠，面板光刻膠和半導體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模相對較小。國內生產(chǎn)的光刻膠中，PCB光刻膠占比94%，LCD光刻膠和半導體光刻膠占比分別僅有3%和2%。

國內光刻膠需求量遠大于本土產(chǎn)量，且差額逐年擴大。由于國內光刻膠起步晚，目前技術水平相對落后，生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，TFT-LCD、半導體光刻膠等高技術壁壘產(chǎn)品產(chǎn)能很少，仍需大量進口，從而導致國內光刻膠需求量遠大于本土產(chǎn)量。

山西光刻膠-北京賽米萊德有限公司-光刻膠廠家由 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司提供。 北京賽米萊德貿(mào)易有限公司是北京 大興區(qū) ,半導體材料的見證者，多年來，公司貫徹執(zhí)行科學管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠實守信的方針，滿足客戶需求。在賽米萊德領導攜全體員工熱情歡迎各界人士垂詢洽談，共創(chuàng)賽米萊德更加美好的未來。