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有不少朋友向我們小編反映到,自己在使用真空蝕刻機制作網(wǎng)版的過程中,總是在圖文部分出現(xiàn)顯影不透的現(xiàn)象。那作為一個的真空蝕刻機廠家,小編自然是總結了以下知識,希望能夠幫助到大家。
一、是在恒溫箱中烘干網(wǎng)版的時間太長或烘干的溫度太高,兩者都可使涂布感光膠的網(wǎng)版在沒有曝光之前就產生“熱敏化”,如果再曝光就產生過量曝光,因此,圖像難以顯透了。 二、在涂布感光膠時,由于涂布的次數(shù)較多,涂布時又不注意避光操作造成多次曝光,再曝光時就難以顯透圖像。 三、曬版光源強度太大,曬版時間太長造成曝光過度,造成顯影困難。有時圖像反差太小,曝光時就會產生曝光過度,造成顯影困難。
金屬在蝕刻機中的腐蝕過程,首先是在金屬零件表面發(fā)生晶粒的溶解作用,其次在晶界上也發(fā)生溶解作用,一般來講,晶界是以不同于晶粒的溶解速度發(fā)生溶解作用的。
在大多數(shù)金屬和合金的多晶體結構中,各個晶體幾乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及雜質都會和周圍的母體金屬形成微觀或超微觀原電池。所以,對于金屬在蝕刻液中來講,一方面這些原電池的存在,使金屬表面存在著電位差,電位正的地方得到暫時的保護,電位負的地方在腐蝕機中被優(yōu)先蝕刻。另一方面在零件表面具有變化著的原子間距,而且原子間距較寬的地方溶解速度迅速,一直到顯示出不平整的表面為止。然后,溶解作用將以幾乎是恒定的速度切削緊密堆積的原子層,表面的幾何形狀也隨著晶粒的溶解而繼續(xù)不斷地變化。晶界上的蝕刻也將進一步影響零件表面。在晶界上晶格的畸變和富集的雜質,常常導致更加快速的蝕刻作用,從而可能會使整個晶粒受到凹坑狀的蝕刻。晶粒尺寸越小,蝕刻后表面粗糙度越低,這也可以從實際生產中得到證實。在生產中往往都是材料越均勻致密其表面越平滑。