上海電子行業(yè)金相磨拋機OEM貼牌 鑄造輝煌 賦耘檢測技術(shù)供應(yīng)

 賦耘檢測技術(shù)（上海）有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售金相制樣設(shè)備的綜合性企業(yè)。我們會根據(jù)不同材料、不同要求提供不同金相磨拋機。產(chǎn)品名稱：雙盤金相磨拋機（無級調(diào)速）產(chǎn)品型號：FYP-2產(chǎn)品特點：防濺水橢圓水槽設(shè)計可靠保護部件的使用壽命及保持機臺的整潔；大口徑的排水管道，解決易堵的問題；無極調(diào)速，更方便得到需求的轉(zhuǎn)速；三檔定速，能快速定位常用轉(zhuǎn)速。主要技術(shù)參數(shù)：工作盤Φ200mm/Φ230mm/Φ250mm；轉(zhuǎn)速100-1000r/min；三檔定速S1=300r/minS2=500r/minS3=800r/min可自定義；旋轉(zhuǎn)方向順時針或逆時針可調(diào)；電機功率750W；電源電壓AC220V50HZ(N+L1+PE)；水壓1-10bar/；環(huán)境溫度5-40℃；尺寸700x735x450mm；重量54Kg。合適的金相磨拋機會讓你的金相研究事半功倍！上海電子行業(yè)金相磨拋機OEM貼牌

   金相研磨機的主要類型有圓盤式研磨機、轉(zhuǎn)軸式研磨機和各種研磨機。①圓盤式研磨機分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機應(yīng)用為普遍。在雙盤研磨機上，多個工件同時放入位于上、下研磨盤之間的夾持架內(nèi)，夾持架和工件由偏心或行星機構(gòu)帶動作平面平行運動。下研磨盤旋轉(zhuǎn)，與之平行的上研磨盤可以不轉(zhuǎn)，或相對于下研磨盤反向旋轉(zhuǎn)，并可上下移動以壓緊工件(壓力可調(diào))。此外，上研磨盤還可隨搖臂繞立柱轉(zhuǎn)動角度，以便裝卸工件。雙盤研磨機主要用于加工兩平行面、一個平面(需增加壓緊工件的附件)、外圓柱面和球面(采用帶V形槽的研磨盤)等。加工外圓柱面時,因工件既要滑動又要滾動，須合理選擇夾持架孔槽型式和排列角度。而單盤研磨機只有一個下研磨盤，用于研磨工件的下平面，可使形狀和尺寸各異的工件同盤加工，研磨精度較高。②轉(zhuǎn)軸式研磨機由正、反向旋轉(zhuǎn)的主軸帶動工件或研具(可調(diào)式研磨環(huán)或研磨棒)旋轉(zhuǎn)，結(jié)構(gòu)比較簡單，用于研磨內(nèi)、外圓柱面。③研磨機按照被研磨工件的不同，可分中心孔研磨機、鋼球研磨機和齒輪研磨機等。金相研磨機磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會增加試樣在給定時間內(nèi)的運動距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸。上海PCB研磨金相磨拋機手動金相磨拋機如何使用？

   金相研磨機磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可供選！大直徑的研磨盤會增加試樣在給定時間內(nèi)的運動距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運動距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運動距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時，建議將時間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機的試樣制備時間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。復(fù)合材料包含的化學(xué)成分很廣，一般分為金屬基體復(fù)合材料(MMC)，聚合物基體復(fù)合材料(PMC)和陶瓷基體復(fù)合材料(CMC)。由于使用的材料范圍廣，材料的硬度，研磨拋光特性的區(qū)別，所以試樣制備方案很難制訂，另外浮雕的控制也是很大的問題。復(fù)合材料的制備拔出現(xiàn)象比較普遍，特別對PMC材料如此。切割也經(jīng)常產(chǎn)生損傷，需要在初的制備步驟去除。利用真空澆注環(huán)氧樹脂是常用的鑲嵌方法。

   金相研磨機磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會增加試樣在給定時間內(nèi)的運動距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運動距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運動距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時，建議將時間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機的試樣制備時間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。純銻，鉍，鎘，鉛，錫，和鋅是非常軟的難制備的金屬。純銻相當(dāng)脆，但含銻的合金很常見。鉍是一種軟的金屬，制備不是十分困難。然而對含殘余鉍顆粒的快削鋼，制備就很困難。鎘和鋅，都是六方密排晶格結(jié)構(gòu)，如果切割或研磨太重，則傾向于生成機械孿晶。鋅比鉛或錫要硬，趨于易碎。鋅被的用于板材防蝕電鍍保護涂層(鍍鋅鋼)，是經(jīng)常要面對的問題。純鋅制備非常困難。鉛是一種非常軟的易延展的金屬，純鉛試樣非常非常難制備。然而，鉛合金制備相對較容易。錫在室溫下是體心立方晶格結(jié)構(gòu)的同素異形體，軟易延展的金屬，不容易生成機械孿晶。賦耘檢測技術(shù)（上海）有限公司金相拋光機金相自動磨拋機金相磨拋機磨拋機磨光機金相研磨機適合所有材料！

   金相研磨機的磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會增加試樣在給定時間內(nèi)的運動距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運動距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運動距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時，建議將時間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機的試樣制備時間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。鎳和鎳合金是面心立方晶格結(jié)構(gòu)，制備方法基本上和奧氏體不銹鋼一樣。純鎳比鎳合金要難制備。Ni-Fe磁性合金，要制備無劃痕的表面非常困難，除非采用震動拋光。Monel(Ni-Cu)合金和高抗蝕(Ni-Cr-Fe)合金要比鎳基高溫合金難制備多了。固溶退火鎳基高溫合金要比沉淀硬化鎳基高溫合金難制備。金相磨拋機的合適轉(zhuǎn)速；上海電子行業(yè)金相磨拋機磨盤大小有哪些

賦耘檢測技術(shù)金相拋光機金相自動磨拋機金相磨拋機磨拋機磨光機金相研磨機壓力根據(jù)什么情況來選擇？上海電子行業(yè)金相磨拋機OEM貼牌

   金相研磨機磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選！大直徑的研磨盤會增加試樣在給定時間內(nèi)的運動距離。例如，轉(zhuǎn)速一樣時，試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運動距離，分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運動距離。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時，建議將時間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機的試樣制備時間要短，但耗材消耗稍多，所以大直徑的研磨機更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。為了達到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低，比較好不要超過500r/min;拋光時間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時間長些，因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無光，在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕，有待精拋除去。精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高，拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。金相試樣拋光質(zhì)量的好壞嚴重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步引起有關(guān)人員的重視。近年來，國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機型、新一代的拋光設(shè)備，正由原來的手動操作發(fā)展成為各種各樣的半自動及全自動拋光機。上海電子行業(yè)金相磨拋機OEM貼牌