大型不銹鋼鍍膜機免費咨詢「至成真空科技」

金屬首飾真空鍍膜機特點：

1、磁控濺射的原理是基于陰極輝光放電理論，擴大在陰極表面磁場接近工件表面，以增加濺射原子的電離率。它保留了磁控濺射的細膩和光澤度增加。2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，能夠根據(jù)工作電流30A時，優(yōu)化陰極和磁場結構涂層，涂膜和基材界面產(chǎn)生原子擴散，再加上離子束輔助功能沉積。

應用行業(yè)：設備被廣泛應用于IPG的時鐘，IPS手表和鐘表，的IP，手機外殼，五金，潔具，刀具，防摩擦的工具，模具和模具等，它可以制備TiN，TiCN涂層，氮化TIALN，TiNbu，TiCrN，氮化鋯，各類鉆石薄膜（DLC）。

鍍膜前后的效果有哪些區(qū)別

沒有做涂層時的問題：(1)鏡面很容易亂花，甚至做表面清潔時用柔軟的紙巾擦拭也會亂花(2)使用不到半個月鏡面就亂花或變霧(3)反復多次拆卸拋光，不僅成本高昂，而且嚴重影響生產(chǎn)效率，甚至無法正常交貨給客人

通過鏡面塑膠模具涂層鍍膜設備鍍膜后：(1)鏡面完全沒有受損：光亮度沒有下降、沒有產(chǎn)生小白點或其它花紋等(2)由于涂層后表面硬度的提高，在做模具保養(yǎng)時，用紙巾擦拭，甚至手碰到模具，都不用擔心表面亂花(3)使用時間提高到半年，甚至1年以上(4)在涂層磨損后，仍然可以褪去涂層，再拋光重鍍再使用(5)無論生產(chǎn)效率，還是成本效益，都取得了很好的收益

真空鍍膜機所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快

蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不易確保，與特定的因素能夠操控，但由于有限的原理，對非單組分涂料，蒸發(fā)鍍膜成分均勻性欠好。濺射能夠簡略地理解為電子或高能激光炮擊方針的運用，使得外表成分的自由基或離子方式濺射，并堆積在襯底外表的成膜過程中，經(jīng)歷，終構成薄膜。真空鍍膜機的設備濺射被分為很多類型，在濺射速率不同點和蒸發(fā)將變成一個首要的參數(shù)。

激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于保護，和原子標準的厚度均勻性較差（由于脈沖濺射），晶體取向（外）成長的操控也更通常的。

機床的正常運行的情況下，真空鍍膜機發(fā)動機器，你有必要首要翻開水管，應一直注意在作業(yè)水壓力

同時，離子炮擊和蒸發(fā)，應特別注意高壓電線連接器，不能觸摸，以防。涂層中的電子槍，對鋁的外圍鈴。好用鉛玻璃調(diào)查窗玻璃，應戴上眼鏡調(diào)查鉛玻璃，避免X射線對人體的。多層介質(zhì)膜的涂層的堆積，真空鍍膜機應當裝置通風除塵設備，及時掃除有害粉塵。