愛德華真空泵維修熱管行業(yè)真空系統(tǒng)「多圖」

渦旋真空泵的主要性能表征參數(shù)

5.1.1間隙大小

   間隙包括軸向間隙和徑向間隙。由于軸向間隙只是由設計精度、加工精度和

裝配精度進行控制的，也比較容易控制，在此不做過多的介紹。而徑向間隙可以

由式((2.11)計算得到，即

                         e二，*R,-2* a * R.-R                  (5.1)

5.1.2抽氣速率

   理論抽氣速率Sth是由泵的幾何尺寸、轉速和是否是雙側渦旋共同決定的一

個反映抽氣性能的參數(shù)，也叫幾何抽速。假設轉速為n(轉/秒)，并且該禍旋泵

為雙側渦旋，那么Sth可表達為下式:

                     S1,=2仇、 Vol卜(5.2)

   其中VII, Vo;分別為轉子和定子所形成的外層完整內壓縮腔和外層完整外壓

縮腔的容積。、

   實際抽速是指泵實際排出氣的速率。由于渦旋無油泵存在著軸向和徑向泄

漏，其實際抽速S要低于理論抽速Sth，設P:為吸入口壓力，P:為排氣口壓力，

Q。為總泄漏，則〔10)

                                 S*PL=Sw*P,司t

則實際抽速為

       g

J=J'*一下了

         r,

(5.3)

5.1.3極限壓力

   渦旋式無油真空泵的極限壓力是指不進入氣體長期運轉，在測試罩內所能達

到的穩(wěn)定時的低壓力，用P。表示。此時泵的實際抽速S=O，令式((5.3)中的實際

抽速S=O，即可得極限壓力〔10)

(5.4)

半導體加工我們繼續(xù)革新技術解決方案，這些解決方案將會提升制程正常運轉時間、產(chǎn)量、吞吐量與安全認證水平，同時通過減輕不利于環(huán)境的排放、延長產(chǎn)品使用壽命并降低持續(xù)服務成本，努力協(xié)調平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。

所有居于地位的制程工具 OEM，以及全球每一家主要半導體工廠都采用了我們的系統(tǒng)，因為它們能夠滿足成熟制程與發(fā)展中制程的具體要求。提供干式真空泵、渦輪分子泵與使用點減排系統(tǒng)等各種系統(tǒng)，用來優(yōu)化從輕負荷制程到超重負荷制程的各項應用的性能表現(xiàn)。 平版印刷平版印刷（即晶圓的圖案形成）是半導體 制程中的一個關鍵步驟。半導體加工我們繼續(xù)革新技術解決方案，這些解決方案將會提升制程正常運轉時間、產(chǎn)量、吞吐量與安全認證水平，同時通過減輕不利于環(huán)境的排放、延長產(chǎn)品使用壽命并降低持續(xù)服務成本，努力協(xié)調平衡往往相互沖突的更低擁有成本要求。雖然傳統(tǒng)甚至浸潤式平版印刷 一般不需要真空環(huán)境，但遠紫外 (EUV) 平版印刷和電子束平版印刷卻需要真空 泵。Edward可以讓您有效應對這兩種應用。

EUV 平版印刷泵送解決方案

多重圖案形成技術有其存在的價值， 但以后可能需要使用 EUV 平版印刷，因為輕型 EUV 系統(tǒng) 提供極短的波長。要讓您的系統(tǒng)具有 性能，真空環(huán)境是關鍵。真空系統(tǒng)的 清潔性尤其重要，它有助于延長維修間隔。摘要：設備安裝與試運轉設備監(jiān)控和預防性維護設備維修與升級備件和附件產(chǎn)品培訓和建議可提高性能和效率的升級物流管理，可簡化供應鏈緊急熱線和服務支持-包括正常工作時間外的支持服務。我們 與 EUV 平版印刷 OEM 和光源 OEM 合作開發(fā)了 精密真空系統(tǒng)，可為您進行的大型投資提供 可靠性。

電子束平版印刷解決方案

電子束平版印刷在硅晶片的圖案形成中 具有重要作用。低振動的清潔真空對于確保系統(tǒng)的精密性 和長正常運行時間至關重要。

我們的產(chǎn)品解決方案

您可能需要使用渦輪分子泵 (TMP) 以便 在您的制程工具上實現(xiàn)超高真空。我們的 STP 系列 TMP 采用 完全磁懸浮轉子以降低艙室污染風險并延長 維修間隔。技術數(shù)據(jù)GV80GV160GV250GV400GV600構造3爪 1桿2爪 1桿3爪式3爪式3爪 1桿排量（工作容積）91。目前開發(fā)的產(chǎn)品通過將控制器集成到 泵本身中來降低總成本和占地面積，不再需要 外部控制器和控制器與泵之間的沉重控制 電纜。

適用于研發(fā)實驗室的實驗室真空系統(tǒng)我們提供豐富多樣的真空產(chǎn)品， 以應對當今研發(fā)實驗室所面臨的種種挑戰(zhàn)。 通過與各主要科學儀器制造商、大學院校和主要研究機構的 通力合作，我們能夠深入了解研究過程以及真空技術 所發(fā)揮的作用。在某些情況下，粉末實際上可能很粘或需要高溫運行才能確保粉末中夾帶的其他副產(chǎn)品不在泵內部冷凝并卡住泵機構。我們專注于真空領域的技術進展，并 投資于研發(fā)，因此能夠開發(fā)滿足您的特定應用 要求的產(chǎn)品。 單一供應商：

廣泛的產(chǎn)品組合齊聚一堂基于技術的解決方案：

從 UHV（超高真空）到大氣壓安心：

經(jīng)驗豐富，可幫助您選擇解決方案

化學氣相沉淀化學氣相沉淀 (CVD) 系統(tǒng)具有 多種配置用于沉積多種類型的薄膜。制程 還以不同的壓力和流量狀態(tài)運行，其中的許多狀態(tài) 都使用含氟的干燥清潔制程。EdwardsE2M80油封式旋片真空泵愛德華真空泵Edwards真空泵旋片泵油回轉高真空泵愛德華E2M80油封式旋片真空泵Edwards真空泵。所有這些可變因素意味著您 需要咨詢我們的應用工程師之一來選擇適當?shù)谋?和氣體減排系統(tǒng)以便大程度地延長我們產(chǎn)品的維修間隔并 延長您制程的正常運行時間。

干泵選擇

CVD 制程通常需要通過選擇適當?shù)?干泵產(chǎn)品來克服四個特定挑戰(zhàn)。這些挑戰(zhàn)是：

粉末

許多制程會產(chǎn)生 大量粉末副產(chǎn)品。需要將真空泵設計成 能夠處理這些粉末而不被卡住。EDWARDE2M80愛德華真空泵維修惠州市明勝真空設備有限公司www。在某些情況下，粉末實際上可能 很粘或需要高溫運行才能確保粉末中夾帶的其他 副產(chǎn)品不在泵內部冷凝并卡住泵機構。 對于幾乎所有產(chǎn)生粉末的制程，您將不得不使用 采用高扭矩電機的泵，以確保泵在應力下保持 旋轉。

冷凝

半導體 制程的某些副產(chǎn)品含有氣體，當氣體分壓 增加或與冷表面接觸時，這些氣體會從氣 相變?yōu)楣滔?。在泵送這些副產(chǎn)品時， 您將需要非常熱的泵，是從入口到出口 具有盡可能一致的溫度分布的泵。

腐蝕

有些制程 需要泵送鹵化物。尤其是需要含氟的清潔制程來 保持艙室的清潔性，但被激的氟自由基 可能會侵蝕泵的內表面。Edward真空泵油概述：提供一系列新型油：Ultragrade?15、19、20和70，均采用制程生產(chǎn)。如果制程主要使用 可能對泵造成腐蝕的化學品，您需要確保可以 將泵溫度設置為一個較低值以降低腐蝕風險。我們的泵設計 具有可選的溫度設和高旋轉 速度以降低腐蝕風險并降低泵中不可避免 發(fā)生的總體材料損失速率。對于某些 CVD 制程，需要在溫度設上 達到平衡，以確保避免任何冷凝問題， 同時不使腐蝕速度過高。