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氦質譜檢漏儀的應用拓展三

（1）電子行業(yè)

微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)

管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機組、電鏡、質譜儀、電子束離子速暴光機、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機、薄膜真空計。

（3）核工業(yè)

鈾分離裝置、存儲裝置、核發(fā)電裝置。

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氦質譜檢漏儀的環(huán)境條件

氦質譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器，今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來說一下，氦質譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些，希望對您有所幫助！

校準環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ，校準過程中室溫變化不超過± 1℃ ，環(huán)境相對濕度不大于80% 。

校準設備周圍應無明顯的溫差、氣流和強電磁場等外部干擾。

環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近，因為標準漏孔的出廠標稱漏率對應的環(huán)境溫度一般為23℃ 。

氦質譜檢漏儀的檢漏方式有那些

氦質譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種，一種為常規(guī)檢漏，另一種為逆擴散檢漏。

逆擴散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進入安裝在泵的進氣口端的質譜管內而被檢測。逆擴散系統(tǒng)檢漏儀與常規(guī)系統(tǒng)相比，被檢件只與低真空相通，因此只需將被檢工件抽至低真空就能進行檢漏，氦氣是逆擴散到質譜管，不會對系統(tǒng)有污染，因此被廣泛采用，已成為市場的主流的產(chǎn)品。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質量的氣體具有不同壓縮比（氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比）即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設計的。

氦質譜檢漏儀逆擴散原理

逆擴散方式檢漏允許被檢件內壓強較高，氦質譜檢漏儀可達1000Pa（一般常規(guī)檢漏儀為0.05Pa以下），適合檢大型容器或有大漏的器件，也適合吸槍檢漏。逆擴散方式還具有質譜管不易受污染，燈絲壽命長等優(yōu)點。

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