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真空電鍍機維修注意事項
在制造時候,由于成品是需要在較高的真空度下進行鍍膜的。所以制造時要嚴格保證真空電鍍機的密封性,密封性足夠才能形成真空環(huán)境。
由于很多的真空電鍍機會采用濺射的方式進行鍍膜,所以在使用的過程中帶有一定的危險性,所以要求操作人員必須擁有一定的同類產(chǎn)品操作經(jīng)驗和嚴格的安全防護措施。
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真空電鍍機的操作規(guī)范
1.正常工作的真空電鍍機在開動時,需要先將水管打開,在真空電鍍機運行之中要時刻注意水壓的狀態(tài);
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時,要特別注意線路方面的情況,不得觸動高壓線頭,以防觸電;
3.在用真空電鍍機的電子槍的時候,要在鐘罩的外面圍上一定的防護措施,在觀察真空電鍍機內(nèi)部工作狀態(tài)的時候,需要隔著一定的防護玻璃,觀察者建議戴上鉛玻璃的研究,以防X射線對人體造成危害;
4.在對多層介質(zhì)膜進行鍍膜時,要記得安裝好通風吸塵裝置,及時對有害粉塵進行清除;
5.真空電鍍機的酸洗裝置需在通風裝置內(nèi)進行操作,且操作時工作人員應(yīng)戴好橡膠手套;
6.真空電鍍工作完畢之后,應(yīng)進行斷水和斷電的操作,防止出現(xiàn)資源浪費和設(shè)備意外。
主要的鍍膜濺射方式有哪些?
磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn),那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。
磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析
主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.
現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.
直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.
CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備
而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.
而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.
如果尋找本質(zhì)區(qū)別是:直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.
以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式,希望本文能夠讓用戶對設(shè)備更加了解。