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反滲透EDI工藝都是一個理想的選擇
EDI的凈水基本過程: (1)連續(xù)運行,產品水水質穩(wěn)定 (2)容易實現(xiàn)全自動控制 (3)無須用酸堿再生 (4)不會因再生而停機,節(jié)省了再生用水及再生污水處理設施 (5)產水率高(可達95%)。 EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。 對于高純水系統(tǒng),無論從產水質量、性能和操作等方面考慮,還是從運行費用和環(huán)保等方面考慮,反滲透 EDI工藝都是一個理想的選擇。
EDI設備的污染判斷及清洗方法
EDI設備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進水條件在很大的程度上減少了膜塊內部阻塞的機會,但是隨著設備運行時間的延展,EDI膜塊內部水道還是有可能產生阻塞,這主要是EDI進水中含有較多的溶質,在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過0.8ppm)、CO2和較高的 PH 值,將會加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學清洗的方法對EDI膜塊進行清洗,使之恢復到原來的技術特性。
高純水設備性能優(yōu)勢可連續(xù),穩(wěn)定地生產高品質純水
高純水設備性能優(yōu)勢 可連續(xù),穩(wěn)定地生產高品質純水,無需因樹脂再生而停機。 無污染物排放,既環(huán)保又省去了廢液處理的投資。 設備結構緊湊,占地面積小,節(jié)省空間,同時還具有節(jié)能優(yōu)點。 日常保養(yǎng),操作簡單,勞動強度低。 主要應用行業(yè) 廣泛用于微電子工業(yè),半導體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實驗室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發(fā)電廠的鍋爐的補給水,以及其它應用高純水。