鍍層分析儀性價(jià)比出眾「多圖」

江蘇一六儀器  國(guó)內(nèi)外通力合作打造高性價(jià)比X熒光測(cè)厚儀 穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),專利獨(dú)特聚焦和變距設(shè)計(jì),多元EFP算法,簡(jiǎn)便快速測(cè)試各種涂鍍層的厚度及成分比例

測(cè)厚儀的應(yīng)用：

1、激光測(cè)厚儀是利用激光的反射原理，根據(jù)光切法測(cè)量和觀察機(jī)械制造中零件加工表面的微觀幾何形狀來測(cè)量產(chǎn)品的厚度，是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)測(cè)量?jī)x器。它可直接輸出數(shù)字信號(hào)與工業(yè)計(jì)算機(jī)相連接，并迅速處理數(shù)據(jù)并輸出偏差值到各種工業(yè)設(shè)備。

2、X射線測(cè)厚儀利用X射線穿透被測(cè)材料時(shí)，X射線的強(qiáng)度的變化與材料的厚度相關(guān)的特性，滄州歐譜從而測(cè)定材料的厚度，是一種非接觸式的動(dòng)態(tài)計(jì)量?jī)x器。它以PLC和工心，采集計(jì)算數(shù)據(jù)并輸出目標(biāo)偏差值給軋機(jī)厚度控制系統(tǒng)，達(dá)到要求的軋制厚度。當(dāng)人射x射線撞擊原子中的電子時(shí)，如光子能量大于原子中的電子約束能，電子就會(huì)被擊出。主要應(yīng)用行業(yè)：有色金屬的板帶箔加工、冶金行業(yè)的板帶加工

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江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題。廣泛應(yīng)用于電子元器件、LED和照明、家用電器、通訊、汽車電子等制造領(lǐng)域。江蘇一六儀器專業(yè)測(cè)厚儀多道脈沖分析采集先進(jìn)EFP算法膜厚儀又名膜厚測(cè)試儀分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。

影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有哪些

     影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有哪些？生產(chǎn)產(chǎn)品過程中，可能就因?yàn)橐稽c(diǎn)點(diǎn)的誤差，可能這批產(chǎn)品就成了報(bào)廢品，而這種情況在批量生產(chǎn)的廠家中為常見，也是需要注意的一個(gè)點(diǎn)。因此我們也就得對(duì)影響涂層測(cè)厚儀精準(zhǔn)度的因素有所了解了。

   (1)附著物質(zhì)的影響。本儀器對(duì)那些妨礙探頭與覆蓋層表面緊密接觸的附著物質(zhì)敏感。因此必須清除附著物質(zhì)，以保證探頭與覆蓋層表面直接接觸。在進(jìn)行系統(tǒng)校準(zhǔn)時(shí)，選擇的基體的表面也必須是luo露的、光滑的。

江蘇一六儀器有限公司

光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售，專業(yè)解決各類涂鍍層、膜層的檢測(cè)難題！

什么是涂層測(cè)厚儀

    什么是涂層測(cè)厚儀？不同類型的測(cè)厚儀，對(duì)應(yīng)不一樣的行業(yè)，適用范圍也有所不同，那么我們?cè)谶x購(gòu)測(cè)厚儀時(shí)，就需要對(duì)特定的測(cè)厚儀有所了解，那么這次就先來了解下涂層測(cè)厚儀的概念。

   涂層測(cè)厚儀可無損地測(cè)量磁性金屬基體（如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等）上非磁性涂層的厚度（如鋁、鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等） 及非磁性金屬基體（如銅、鋁、鋅、錫等）上非導(dǎo)電覆層的厚度（如：琺瑯、橡膠、油漆、塑料等）。

X射線熒光的基本原理

一六儀器X射線熒光測(cè)厚儀 研發(fā)生產(chǎn)廠家 品質(zhì)保證

江蘇一六儀器有限公司研發(fā)的能量色散X熒光光譜儀具有穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析，歡迎來電咨詢！

當(dāng)X射線激發(fā)出試樣特征X射線時(shí)，其入射電磁輻射能量必須大于某一個(gè)值才能引起其內(nèi)層電子激發(fā)態(tài)從而形成空穴并引起電子的躍遷，這個(gè)值是吸收限，相當(dāng)于內(nèi)層電子的功函數(shù)。如果入射電磁輻射的能量低于吸收限則在任何情況下都不能激發(fā)原子內(nèi)層電子并產(chǎn)生特征X射線。⒊測(cè)量時(shí)要注意基體金屬的臨界厚度，如果大于這個(gè)厚度測(cè)量就不受基體金屬厚度的影響。

X射線的激發(fā)

   如果要得到某元素的特征X射線，需要對(duì)元素原子內(nèi)層電子進(jìn)行激發(fā)，使得內(nèi)層電子獲得一定能量，能夠脫離原子核的束縛，從而在內(nèi)層軌道形成電子空穴，當(dāng)較高能級(jí)電子填補(bǔ)這一空穴時(shí)，才會(huì)發(fā)射一定能量的特征X射線，這個(gè)過程就是X射線的激發(fā)。