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雙靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
設(shè)備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時設(shè)備具有反濺射清洗功能,以提高膜的質(zhì)量和牢固度。
設(shè)備組成
系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(2個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。
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濺射鍍膜
濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術(shù)。通常,利用低壓惰性氣體輝光放電來產(chǎn)生入射離子。陰極靶由鍍膜材料制成,基片作為陽極,真空室中通入0.1-10Pa的氣或其它惰性氣體,在陰極(靶)1-3KV直流負(fù)高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產(chǎn)生輝光放電。設(shè)備簡介主要特點是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作,對實驗室供電要求低。電離出的離子轟擊靶表面,使得靶原子濺出并沉積在基片上,形成薄膜。濺射方法很多,主要有二級濺射、三級或四級濺射、磁控濺射、對靶濺射、射頻濺射、偏壓濺射、非對稱交流射頻濺射、離子束濺射以及反應(yīng)濺射等。
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自動磁控濺射系統(tǒng)有哪些特點?
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
自動磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
不銹鋼腔體
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下的載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下的載片
小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡介
小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學(xué)與小批量打樣,可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。
具有一體化、占用空間小、靈活的特點,無需380V工業(yè)電,無需額外冷水機,采用無油干泵分子泵組,無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。
保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性。觸摸屏控制界面,帶來簡單、操作方便的體驗。
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