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真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。而且,這樣的納米膜還可以涂覆在內(nèi)部電子元件表面,這樣即使有水進(jìn)到內(nèi)部也不會(huì)造成損壞。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片,如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等;后延伸到其他功能薄膜,唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等,如手表外殼鍍仿金色,機(jī)械刀具鍍膜,改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富??傮w來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。
隨著表面貼裝技術(shù)發(fā)展和元器件的日益小型化,印制電路組件也日益向小型化和高密度方向發(fā)展,這給印制電路組件的三防措施提出了新的要求??傮w來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。傳統(tǒng)使用的環(huán)氧樹脂、聚氯脂、有機(jī)硅樹脂、聚脂等防護(hù)涂料都是液體涂料。由于液體的粘度和表面張力等原因,涂層厚度不均勻,在棱、角等處涂層較薄,當(dāng)元器件之間,基板之間僅有很小間距時(shí),會(huì)因涂層流不到而形成氣隙。涂層固化,烘干后會(huì)因溶劑或小分子助劑的揮發(fā),產(chǎn)生收縮應(yīng)力或形成微小。
這些傳統(tǒng)涂層的介電強(qiáng)度一般也在2000V/25um以下,因此必須經(jīng)多次涂敷,用較厚的涂層才能實(shí)現(xiàn)較可靠的防護(hù),Parylene涂敷是由活性的對(duì)二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。第二代的抗磨損膜技術(shù)就是通過浸泡工藝法在有機(jī)鏡片的表面鍍上一種硬度高且不易脆裂的材料。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個(gè)細(xì)小縫隙的基材上沉積,形成分子量約50萬的高純聚合物。它沒有助劑溶劑等小分子,不會(huì)對(duì)基材形成傷害,厚度均勻的防護(hù)層和優(yōu)異的性能相結(jié)合,使Parylene涂層僅需0.02-0.05㎜就能對(duì)印制電路組件的表面提供非??煽康姆雷o(hù),甚至經(jīng)過鹽霧試驗(yàn),表面絕緣電阻也不會(huì)有很大改變,而且較薄的涂層對(duì)元器件工作時(shí)所產(chǎn)生的熱量消散也非常有利。另外由于分子結(jié)構(gòu)對(duì)稱性較好,使它在較高的頻率下仍有較小的介質(zhì)損耗和介電常數(shù),它的這種高頻低損耗特性使它為高頻微波電路的可靠防護(hù)創(chuàng)造了條件。
市場(chǎng)對(duì)OLED顯示器件要求使用壽命大于10000h,而OLED對(duì)于水汽、氧氣非常敏感,其有機(jī)發(fā)光材料和活潑金屬陰極都很容易和水汽、氧氣發(fā)生反應(yīng)而使器件遭到損壞。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。派瑞林涂層的水汽滲透率非常低,較可靠的將OLED器件與外界的水氧隔絕,保護(hù)了發(fā)光材料和活潑金屬陰極,從而提高了OLED的使用壽命。
派瑞林涂層的鍍膜方式為氣相沉積CVD,沉積過程過程主要有三步:
1. 真空130℃條件下固態(tài)派瑞林材料升華成氣態(tài)。
2. 真空680℃條件下,將氣態(tài)雙份子裂解成活性單體。
3. 真空常溫下,氣態(tài)單體在基體上生長(zhǎng)聚合。