充電寶LOGO曝光顯影設計擇優(yōu)推薦

當光線照bai射到乳劑時，鹵化銀中的微小晶體會發(fā)生du變化，當顯影時zhi，受到光線照射而發(fā)生dao變化的晶體會形成黑色的金屬銀晶體。結果畫幅中受到光線照射的區(qū)域會轉變?yōu)榈灼习岛谏慕饘巽y區(qū)域。

畫幅中那些沒有受光線照射的區(qū)域又會怎樣呢？這些區(qū)域的鹵化銀晶體沒有變化，在顯影過程中就會被沖洗掉。因此，畫幅中沒有受到光線照射的區(qū)域在底片上會變?yōu)榭盏膮^(qū)域。這些區(qū)域中所剩下的只是膠片的透明片基。

曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。同時在批量生產時，還應該注意當紫外光管長期運行過程中，產生溫升，熱輻射量大，在底片下的干膜上發(fā)生類似與紫外線照射為類似作用，使干膜聚合，也稱熱聚合反應。為此，這就要求曝光機應有冷卻裝置。


基于物理顯影原理的銀鹽擴散轉移體系在一步攝影、直接制版印刷等多方面得到了廣泛的應用,特別是隨著印刷工藝的數字化,計算機直接制版(CTP)成為印刷技術的發(fā)展方向,銀鹽擴散型CTP版材因其特有的優(yōu)點而受到重視.在銀鹽型CTP體系中,銀的堆積形態(tài)及密度等對版材的親油親水性能、耐印率有很大影響.本文利用高分辨率的場效應掃描電子顯微鏡觀察了曝光量、絡合劑等因素對銀鹽CTP體系物理顯影銀堆積形態(tài)的影響,并利用一維線陣CCD裝置實時監(jiān)測了版材的物理顯影過程.