惠陽拉絲面曝光顯影廠家咨詢客服

蝕刻：蝕刻(etching)是將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理du撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻的原理zhi是氧化還原反應(yīng)中的置換dao反應(yīng)：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應(yīng),蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。

顯影：顯影是在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過程。通過堿液作用，將未發(fā)生光聚合反應(yīng)之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。

可以這樣認(rèn)為：光圈（值）大小其實(shí)就是那個(gè)小圓窗戶開多大，快門（速度）就是窗戶打開多久。假設(shè)窗戶只打開1/4，時(shí)間為4秒鐘可以正確曝光的話，很顯然，窗戶打開一半，時(shí)間2秒鐘也能讓底片正確曝光，因?yàn)?/4*4=1/2*2=1，進(jìn)光量都是一樣多。同樣的，如果窗戶全開，曝光時(shí)間就只需要1秒了。 假若一個(gè)鏡頭光圈全開為F4，用攝影行話來說，光圈F4快門速度1秒為正確曝光值，那F5.6和2秒以及F8和4秒也同樣能得到準(zhǔn)確曝光的圖片。 重要結(jié)論：一張正確曝光的圖片可以有N種不同的光圈和快門速度組合。

導(dǎo)致的原因較多，通?？紤]UV光是否正常，即曝光機(jī)是否工作正常。

預(yù)烘烤時(shí)間過長也會(huì)導(dǎo)致顯影不凈。

蝕刻液有問題或濃度較低等等都會(huì)導(dǎo)致時(shí)刻不凈。

總之就是從兩方面考慮：油墨有問題，顯影液正常；油墨沒問題顯影液異常；或者兩者都異常。

板子過顯影線的線速（即顯影時(shí)間）通常會(huì)影響，線速過快就會(huì)顯影不凈。

用肉眼一般也看得出來，也可以用低倍目鏡看。