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低溫光刻膠生產(chǎn)廠家值得信賴“本信息長期有效”

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-14 07:17  






光刻膠簡介

賽米萊德——專業(yè)光刻膠供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工業(yè)的,以后才用于電子工業(yè)。 [1]  光刻膠是一種有機(jī)化合物,它被紫外光曝光后,在顯影溶液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面,而后被干燥成膠膜。



光刻膠市場空間

以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。

光刻膠市場空間與半導(dǎo)體的分不開。2012-2018年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模復(fù)合增速8.23%,在全球半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展下,全球半導(dǎo)體光刻膠市場持續(xù)增長。

而國內(nèi)市場,因全球半導(dǎo)體、液晶面板以及消費(fèi)電子等產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移,對(duì)光刻膠需求量迅速增量。

但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業(yè)主導(dǎo),國內(nèi)企業(yè)市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術(shù)壁壘的LCD 和半導(dǎo)體光刻膠主要依賴進(jìn)口。根據(jù)某些數(shù)據(jù)顯示,國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中,PCB光刻膠的占比高達(dá)95%,半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠產(chǎn)值占比都僅有2%。

由上分析可知,我國目前在光刻膠領(lǐng)域急需技術(shù)突破的。



光刻膠的參數(shù)介紹

1.對(duì)比度(Contrast)

對(duì)比度指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。 對(duì)比度越好,越容易形成側(cè)壁陡直的圖形和較高的寬高比。

2.粘滯性/黏度 (Viscosity)

衡量光刻膠流動(dòng)特性的參數(shù)。黏度通??梢允褂霉饪棠z中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據(jù)濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。

3.抗蝕性(Anti-etching)

光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護(hù)襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。  

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選擇光刻膠需要注意什么

光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被拷貝在圓片的表面。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是較好的,但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加工成本的考慮,需要對(duì)光刻膠進(jìn)行合理的選擇。

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