真空磁控濺射鍍膜設備價格值得信賴

光纖磁控濺射鍍膜機組成

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

設備用途：

在光纖表面鍍制納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。配有陽極層離子源進行清洗和輔助沉積，同時設備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質(zhì)量和牢固度。專用樣品臺可鍍制多種型號光纖產(chǎn)品

系統(tǒng)主要由真空室、磁控靶、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。

【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

以下是沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品，歡迎新老客戶蒞臨。

磁控濺射鍍膜設備是目前一種鍍膜產(chǎn)品，相比傳統(tǒng)的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術得到了廣泛的應用，現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產(chǎn)，

經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規(guī)模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設備其技術含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術工程隊伍，

磁控濺射鍍膜設備行業(yè)資深的專家，磁控濺射鍍膜設備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設計配置。

濺射鍍膜的特點

濺射就是從靶表面撞擊出原子物質(zhì)的過程。濺射產(chǎn)生的原子或分子沉積到基體(零件)表面的過程就是濺射鍍膜。

濺射鍍膜與真空鍍膜相比,有如下特點:

1.任何物質(zhì)都可以濺射, 尤其是高熔點金屬、低蒸氣壓元素和化合物;

2.濺射薄膜與襯底的附著性好;

3.濺射鍍膜的密度高,孔少,膜層純度高;

4.膜層厚度可控性和重復性好。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。