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蒸發(fā)鍍膜
一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時(shí)間,厚度大小
組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
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真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法
制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費(fèi)資源,不過有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問題的。在刀具、模具等金屬切削加工工具方面在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。
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真空鍍膜設(shè)備真空泵的選擇
真空泵工作時(shí)產(chǎn)生的振動(dòng)對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許,應(yīng)選擇無振動(dòng)的泵或者采取防振動(dòng)措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆粒灰塵,有無腐蝕性等。選擇真空泵時(shí),需要知道氣體成分,針對被抽氣體選擇相應(yīng)的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強(qiáng)下,應(yīng)能排走真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。
真空設(shè)備對油污染的要求。若設(shè)備嚴(yán)格要求無油時(shí),應(yīng)該選各種無油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴(yán)格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,也能達(dá)到清潔真空要求。
現(xiàn)代真空鍍膜機(jī)膜厚測量及監(jiān)控方法
涂層的鍍膜機(jī)控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動(dòng)的蒸發(fā)源,通過PID控制回路傳動(dòng)擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準(zhǔn)確性是有限的,鍍膜機(jī)部分原因是其監(jiān)測代替光學(xué)厚度的涂層質(zhì)量。8M等,腔體由不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時(shí)間的加熱過程中,鍍膜機(jī)很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導(dǎo)致薄膜的重大錯(cuò)誤。 光學(xué)監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機(jī)這是因?yàn)樗軠?zhǔn)確控制膜的厚度(如果使用得當(dāng))。
精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學(xué)厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學(xué)監(jiān)測系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機(jī)先進(jìn)的光學(xué)監(jiān)測軟件結(jié)合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應(yīng)的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。只要你把日常維護(hù)和定期維護(hù)做好了,在延長設(shè)備壽命的同時(shí),生產(chǎn)過程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。