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早期商業(yè)化的鉑鋁涂層的表面相結(jié)構(gòu)可分為兩類(lèi):(1) PtAl2連續(xù)分布的單相層;(2) PtAl2 (Ni,Pt)Al雙相層。由于該技術(shù)廢棄排放少、提取貴金屬后殘余物易于處理、經(jīng)濟(jì)效益顯著、工藝流程簡(jiǎn)單,目前,它比火法工藝應(yīng)用更普及更廣泛。單相(Ni,Pt)Al鉑鋁涂層一般由低活性包埋滲鋁或CVD制備獲得,已經(jīng)用作商業(yè)(EB-PVD)TBC系統(tǒng)的粘結(jié)層,但其用作粘結(jié)層時(shí),可能導(dǎo)致出現(xiàn)TGO起皺等現(xiàn)象。
研究鋁化物(外生長(zhǎng)型,單相β-NiAl)、鉑改性鋁化物(外生長(zhǎng)型,單相β-(Ni,Al)Pt)和MCrAlY涂層在三種溫度下的循環(huán)氧化行為。
一般來(lái)講,預(yù)鍍Pt層厚約10μm,涂層制備成本較高。研究鋁化物(外生長(zhǎng)型,單相β-NiAl)、鉑改性鋁化物(外生長(zhǎng)型,單相β-(Ni,Al)Pt)和MCrAlY涂層在三種溫度下的循環(huán)氧化行為。現(xiàn)在人們正試圖以鈀、銥和銠等其它鉑族或更便宜的金屬取代鉑,以獲得性能優(yōu)異、價(jià)格適中的涂層。鈀價(jià)格僅為鉑的四分之一,且不會(huì)在Pd-Al二元合金中形成類(lèi)似PtAl2的合金相。然而,鈀改性鋁化物涂層的抗yang化性甚至比同一氧化條件下簡(jiǎn)單鋁化物涂層還要差。可見(jiàn),有關(guān)以鉑族金屬替代PtAl涂層中Pt元素的研究離實(shí)際應(yīng)用尚遠(yuǎn)。
鍍金件的電解退鍍
原理
采用亞硫酸鈉做電解液,電解時(shí),金在陽(yáng)極被氧化成金離子,進(jìn)入溶液的金離子被亞硫酸鈉直接還原成金,沉淀于槽底,將含金沉淀物分離提純就可以得到純金,此法無(wú)污染、回收率高
電解液組成
2.5%,亞硫酸鈉2.5%
陽(yáng)極和陰極
陽(yáng)極和陰極采用不銹鋼板即可,陰極的面積要大于陽(yáng)極。
電解槽
需要2個(gè)用聚焊好的長(zhǎng)方形槽,一大一小,大的為電解槽,小的為退鍍槽,小槽的兩側(cè)有數(shù)個(gè)直徑3毫米的小孔,用于退鍍液的流通。
金屬鈦冶煉方法
從鈦鐵礦制取TiO2由于TiO2含量高的自然金紅石資源,在世界范圍內(nèi)已近枯竭,因此,從鈦鐵礦除去鐵,制造和天然金紅石相媲美的高品位 TiO2的合成金紅石的方法,是甚為重要的。另外,還可以選用硫酸來(lái)溶解鋅及其他雜質(zhì),沉淀的金不容易重新溶解,但鈣、鉛離子不能與沉淀分離,產(chǎn)品易成黑色。這稱(chēng)之為高品位化(upgrading),其方法可按如下分類(lèi):高鈦渣法。在含二氧化欽35%左右的低品位低鐵礦中加煤作還原劑,并加適當(dāng)?shù)娜蹌?,在電護(hù)中冶煉以進(jìn)行高品位化的方法,已在進(jìn)行,但和生鐵同時(shí)得到的渣含TiO2只能達(dá) 72%左右。