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什么是高純氣體?
改革開放以來,隨著我國高新技術(shù)的快速發(fā)展,計算機工業(yè)對大規(guī)模集成電路與液晶顯示器的需求量增加;隨著新型能源的發(fā)展,我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產(chǎn);此外,新型電光源、光電半導(dǎo)體器件、光纖通訊器件也過的迅猛發(fā)展,上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中,都需要大量高純氣體,以制造出性能可靠的各種器件。改革開放以來,隨著我國高新技術(shù)的快速發(fā)展,計算機工業(yè)對大規(guī)模集成電路與液晶顯示器的需求量增加。什么是高純氣體?半導(dǎo)體集成電路所需要的高純氣體主要分為兩大類:1、普通氣體:也叫大宗氣體,主要有:H2、N2、O2、Ar、He等。2、特種氣體:主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、蝕刻用氣體等。氣體的分離
氣體分離通常使用由聚合物(例如纖維素)或其他材料制成的合成膜進行。由于各種氣體都具有很大的流動性和擴散能力,所以一般認為標準氣體的均勻性不存在什么問題,其實不然。近年來,研究已經(jīng)轉(zhuǎn)向許多人所謂的膜:單層石墨烯,一個厚度為單個原子,現(xiàn)已被證明是薄的分子屏障,因此是有效的膜,具有優(yōu)異的滲透率與穩(wěn)健性和可擴展性。然而,開發(fā)石墨烯的進展遇到了兩個“瓶頸”:一,缺乏將分子大小的孔結(jié)合到石墨烯層中的方法;第二,缺乏實際制造機械堅固、無裂紋和無撕裂的大面積膜的方法?,F(xiàn)在,在解決這兩個問題的突破中,EPFL 研究團隊開發(fā)了一種大面積單層石墨烯膜,它能以有效率(分離系數(shù)高達25)從jiawan中分離氫,并且開發(fā)出未有的氫,孔隙度僅為0.025%。
氧氣的物理性質(zhì)
氧元素位于周期表第六族,原子序數(shù)為8,原子量為16,分子量為32.在通常情況下,氧是無色、無味的氣體。該園區(qū)內(nèi)長達1300多千米的氣體運輸管網(wǎng)均配有實時在線監(jiān)測系統(tǒng),便于統(tǒng)籌調(diào)配管理和有效集約供氣??諝庵泻凶杂蔂顟B(tài)的氧,按體積氧的含量約占21%,按質(zhì)量約占23%。在標準狀況下,1升氧氣的質(zhì)量為1.429克,它比空氣稍重。當(dāng)溫度降到-183℃ 時,氧態(tài)氧變成淡藍色的液體;當(dāng)溫度降到-218.8℃ 時,液氧就會變成雪花狀的淡藍色固體。氧是自然界中含量較多的元素,分布很廣,占地殼中各元素總量的47%,占水成分的89%,占地殼中巖石,抗物成分的46.6%。