NR9 3000PY光刻膠廠家服務(wù)為先「賽米萊德」

光刻膠的重要性

在北京化工大學(xué)理學(xué)院院長(zhǎng)聶俊眼里，我國(guó)雖然已成為世界半導(dǎo)體生產(chǎn)大國(guó)，但面板產(chǎn)業(yè)整體產(chǎn)業(yè)鏈仍較為落后。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類(lèi)，光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。目前，上游電子化學(xué)品（LCD用光刻膠）幾乎全部依賴(lài)進(jìn)口，必須加快面板產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心材料基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，才能支撐我國(guó)微電子產(chǎn)業(yè)未來(lái)發(fā)展及國(guó)際“地位”的確立。

“假如我們把光刻機(jī)比作一把菜刀，那么光刻膠就好比是要切割的菜，沒(méi)有高質(zhì)量的菜，即使有了鋒利的菜刀，也無(wú)法做出一道佳肴?！比涨埃K博硯電子科技有限公司技術(shù)部章宇軒在接受科技日?qǐng)?bào)記者采訪(fǎng)時(shí)說(shuō)。

NR9-3000PYNR9 3000PY光刻膠廠家

光刻膠底膜處理：清洗：清潔干燥，使硅片與光刻膠良好的接觸。這層堅(jiān)硬的外殼可以采取兩種現(xiàn)有方法去除:方法一，采用濕法刻蝕，但這種工藝容易產(chǎn)生光刻膠殘留。烘干：去除襯底表面的水汽，使其徹底干燥，增粘處理(涂底)： 涂上增加光刻膠與硅片表面附著能力的化合物，HMDS，光刻膠疏水，Sio2 空氣中，Si-OH, 表面有，親水性，使用HMDS （H2C）6Si2NH 涂覆，熏蒸  與 SI –OH結(jié)合形成Si-O-Si(CH2)2，與光刻膠相親。

NR9-3000PY

11．請(qǐng)教~有沒(méi)有同時(shí)可以滿(mǎn)足RIE

process 和Lift-off

process的光阻，謝謝！

A 我們推薦使用Futurrex

NR1-300PY來(lái)滿(mǎn)足以上工藝的需求。

12．Futurre光刻膠里，有比較容易去除的負(fù)光阻嗎？

A NR9-系列很容易去除，可以滿(mǎn)足去膠需要。

13．我們目前用干膜做窄板，解析度不夠，希望找到好的替代光阻？

A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例，適合取代，在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

14．傳統(tǒng)的Color

filter 制程，每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí)，有沒(méi)有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘，同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變，只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！

15．請(qǐng)問(wèn)有專(zhuān)門(mén)為平坦化提供材料的公司嗎？

A 美國(guó)Futurrex公司，專(zhuān)門(mén)生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的，可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì)，臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

16．我需要一種可用于鋼板印刷的方式來(lái)涂布PROTECTIVE

COATING，那種適合？？

A 推薦美國(guó)Futurrex，PC4-10000。

17．臘是用來(lái)固定芯片的，但很難清洗干凈，哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下，謝謝？

A 我們公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的，而且去除比較容易，你可以試用下。

18．請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎？

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問(wèn)題，如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

19．誰(shuí)有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠？是否可以形成角度為30度的側(cè)壁？

A 你必須實(shí)現(xiàn)通過(guò)逐步透光來(lái)實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷，NR4-8000P是專(zhuān)門(mén)為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。