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在金屬內(nèi)部和半導體導帶相對應的分能級上,電子密度小于半導體導帶的電子密度。因此,在二者接觸后,電子會從半導體向金屬擴散,從而使金屬帶上負電荷,半導體帶正電荷。由于金屬是理想的導體,負電荷只分布在表面為原子大小的一個薄層之內(nèi)。而對于N型半導體來說,失去電子的施主雜質(zhì)原子成為正離子,則分布在較大的厚度之中。
ASEMI肖特基二極管與快恢復二極管有什么區(qū)別?
這是兩種工藝的芯片技術(shù),勢壘工藝肖特基二極管頻率比平面硅片的快恢復二極管更高,TRR參數(shù)只幾nS,基本忽略,正向?qū)妷旱?,只零點幾伏(低自身功耗),但點壓不高,一般只能做到200V,現(xiàn)在ASEMI有做300V的MBR30200PT。更高的參數(shù)需求可以詳詢ASEMI在線客服。
關(guān)于肖特基二極管的應用,ASEMI總結(jié)出以下幾點:
肖特基二極管是以金屬和半導體接觸形成的勢壘為基礎的二極管,簡稱肖特基二極管(Schottky Barrier Diode),具有正向壓降低(0.4—1.0V)、反向恢復時間很短(0-10納秒),而且反向漏電流較大,耐壓低,一般低于150V,多用于低電壓場合。