高純供氣系統(tǒng)廠家品牌企業(yè)【艾明坷】

大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對大規(guī)模量產的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因為使用同一氣體的所有使用點來自于同一個氣源。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進的工藝制程設備，用氣需求量大，對穩(wěn)定和不間斷供應、純度控制和安全生產提出嚴格的要求。

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試驗室集中供氣系統(tǒng)的特點

1、特點：試驗室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高，為試驗室選用的分析設備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。

2、經濟性：建一個集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應。使用者只需管理較少的氣瓶，支付較少的氣瓶租金，因為使用同一氣體的所有使用點來自于同一個氣源。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過一個出口統(tǒng)一減壓后運送氣體至使用點。此種供應方式終會減少運輸費用，減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量，以及良好的氣瓶管理。

3、使用率：集中管道供應系統(tǒng)可以將氣體出口放置在使用點處，這樣的話可以更合理的設計工作場所。

4、安全性：保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實驗中免受有毒有害氣體的侵害。

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電子特氣管道系統(tǒng)氦檢漏檢測規(guī)定

1、氦檢漏儀表應采用質譜型氦檢測儀，其檢測精度不得低于1*10-10mbar*l/s。

2、特氣系統(tǒng)，內向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s;

3、閥座測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s;

4、外向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-6mbar*l/s。

氦檢漏發(fā)現的泄漏點經修補后，應重新經過氣密性試驗，合格后再按規(guī)定進行氦檢漏。所有可能泄漏點應用塑料袋進行隔離。系統(tǒng)測試完畢，應充入高純氮氣，并進行吹掃。測試完畢后，應提交測試報告。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔最1大泄漏率的63%時所需要的時間。