光刻膠 FUTURREX價(jià)格好貨源好價(jià)格

光刻膠分類

市場(chǎng)上，光刻膠產(chǎn)品依據(jù)不同標(biāo)準(zhǔn)，可以進(jìn)行分類。依照化學(xué)反應(yīng)和顯影原理分類，光刻膠可以分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。使用正性光刻膠工藝，形成的圖形與掩膜版相同；使用負(fù)性光刻膠工藝，形成的圖形與掩膜版相反。

按照感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)分類，光刻膠可以分為①光聚合型，采用烯類單體，在光作用下生成自由基，進(jìn)一步引發(fā)單體聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特點(diǎn)；這些化學(xué)成分發(fā)生變化的區(qū)域，在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。②光分解型，采用含有疊氮醌類化合物的材料，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng)，可以制成正性膠；③光交聯(lián)型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，可以制成負(fù)性光刻膠。

按照曝光波長(zhǎng)分類，光刻膠可分為紫外光刻膠（300~450nm）、深紫外光刻膠（160~280nm）、極紫外光刻膠（EUV，13.5nm）、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。據(jù)悉，經(jīng)過(guò)項(xiàng)目組全體成員的努力攻關(guān)，完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計(jì)、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實(shí)驗(yàn)室光刻膠性能的初步評(píng)價(jià)裝備的研發(fā)，達(dá)到了任務(wù)書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。不同曝光波長(zhǎng)的光刻膠，其適用的光刻極限分辨率不同，通常來(lái)說(shuō)，在使用工藝方法一致的情況下，波長(zhǎng)越小，加工分辨率越佳。

NR9-3000PY光刻膠 FUTURREX價(jià)格

2,涂膠，在硅片覆蓋，旋轉(zhuǎn)，離心力，在硅片表面通過(guò)旋轉(zhuǎn)的光刻膠，工藝參數(shù)3000-6000rpm   膠膜厚0.5-1um， 

3,前烘，通過(guò)在較高溫度下進(jìn)行烘焙，使存底表面涂覆的光刻膠膜的溶劑揮發(fā)，溶劑將至5%左右，同時(shí)增強(qiáng)與襯底的粘附性。前烘方法：熱平板傳導(dǎo)，干燥循環(huán)熱風(fēng)提高附著力，紅外線輻射。

烘箱前烘條件：90-100度，10-20min，前烘時(shí)間與溫度應(yīng)適當(dāng)，如太長(zhǎng)或溫度太高，光刻膠層變脆而附著力下降，而前烘不足會(huì)影響后面的顯影效果。

NR9-3000PY

11．請(qǐng)教~有沒(méi)有同時(shí)可以滿足RIE

process 和Lift-off

process的光阻，謝謝！

A 我們推薦使用Futurrex

NR1-300PY來(lái)滿足以上工藝的需求。

12．Futurre光刻膠里，有比較容易去除的負(fù)光阻嗎？

A NR9-系列很容易去除，可以滿足去膠需要。

13．我們目前用干膜做窄板，解析度不夠，希望找到好的替代光阻？

A NR9-8000因?yàn)橛泻芨叩腁R比例，適合取代，在凸塊的應(yīng)用上也有很大的好處。

14．傳統(tǒng)的Color

filter 制程，每個(gè)顏色的烘烤時(shí)間要2-3個(gè)小時(shí)，有沒(méi)有更快的方法制作Coior

filter?

A 用于Silylation制程------烘烤時(shí)間只需要2分鐘，同時(shí)光阻不需要Reflow, 顏色也不會(huì)老化改變，只需要在Filter上面加熱溶解PR1-2000S光阻，Microlenses就能形成！

15．請(qǐng)問(wèn)有專門為平坦化提供材料的公司嗎？

A 美國(guó)Futurrex公司，專門生產(chǎn)應(yīng)用化學(xué)品的，可以為平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是為平坦化用途設(shè)計(jì)，臺(tái)灣企業(yè)用的比較多。

16．我需要一種可用于鋼板印刷的方式來(lái)涂布PROTECTIVE

COATING，那種適合？？

A 推薦美國(guó)Futurrex，PC4-10000。

17．臘是用來(lái)固定芯片的，但很難清洗干凈，哪里有可以替代的產(chǎn)品介紹下，謝謝？

A 我們公司是使用Futurrex

PC3-6000,可以替代的，而且去除比較容易，你可以試用下。

18．請(qǐng)問(wèn)有沒(méi)有100微米厚襯底為鍍鎳硅并可用與MEMS應(yīng)用的光刻膠嗎？

A NR4-8000P可以做到140微米的厚度，并在鍍鎳的襯底上不會(huì)出現(xiàn)難去膠的問(wèn)題，如果是其他非鍍鎳襯底NR9-8000P是適合的選擇。

19．誰(shuí)有用在光波導(dǎo)圖案的光刻膠？是否可以形成角度為30度的側(cè)壁？

A 你必須實(shí)現(xiàn)通過(guò)逐步透光來(lái)實(shí)現(xiàn)掩膜圖案棱的印刷，NR4-8000P是專門為光波導(dǎo)圖案應(yīng)用進(jìn)行設(shè)計(jì)的產(chǎn)品。

光刻膠

光刻膠組分及功能

光引發(fā)劑

光引發(fā)劑吸收光能（輻射能）后經(jīng)激發(fā)生成活性中間體，并進(jìn)一步引發(fā)聚合反應(yīng)或其他化學(xué)反應(yīng)，是光刻膠的關(guān)鍵組分，對(duì)光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用。

樹脂

光刻膠的基本骨架，是其中占比較大的組分，主要決定曝光后光刻膠的基本性能，包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前后對(duì)溶劑溶解度的變化程度、光學(xué)性能、耐老化性、耐蝕刻性、熱穩(wěn)定性等。

溶劑

溶解各組分，是后續(xù)聚合反應(yīng)的介質(zhì)，另外可調(diào)節(jié)成膜。

單體

含有可聚合官能團(tuán)的小分子，也稱之為活性稀釋劑，一般參加光固化反應(yīng)，可降低光固化體系粘度并調(diào)節(jié)光固化材料的各種性能。