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佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產廠家，公司秉承“以質取勝，求真務實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。        物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。鍍膜室的真空度、鍍膜材料的蒸發(fā)速率、蒸發(fā)距離和蒸發(fā)源的間距，以及基材表面狀態(tài)和溫度等都是影響鍍膜層質量的因素。

真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優(yōu)點：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好，薄膜牢固。真空鍍膜技術初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代l開始出現(xiàn)工業(yè)應用，工業(yè)化大規(guī)模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應用。(4)干式鍍膜既不產生廢液，也無環(huán)境污染。

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